[发明专利]光刻设备和器件制造方法有效
申请号: | 200510113235.2 | 申请日: | 2005-08-12 |
公开(公告)号: | CN1746775A | 公开(公告)日: | 2006-03-15 |
发明(设计)人: | T·P·M·卡迪;J·H·W·贾科布斯;N·坦卡特;E·R·鲁普斯特拉;A·L·H·J·范米尔;J·J·S·M·梅坦斯;C·G·M·德莫;M·J·E·H·米特詹斯;A·J·范德内特;J·J·奥坦斯;J·A·夸伊达克斯;M·E·鲁曼-休斯肯;M·K·斯塔温加;P·A·J·廷内曼斯;M·C·M·维哈根;J·J·L·H·维斯帕;F·E·德荣格;K·戈尔曼;B·门奇奇科夫;H·博姆;S·尼蒂亚诺夫;R·莫尔曼;M·F·P·斯米特斯;B·L·P·小恩德马克;F·J·J·詹斯森;M·里伊彭 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F9/00;H01L21/027 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 王岳;王忠忠 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【说明书】:
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