[发明专利]光刻设备和位置测量方法有效
| 申请号： | 200510113781.6 | 申请日： | 2005-10-08 |
| 公开（公告）号： | CN1758140A | 公开（公告）日： | 2006-04-12 |
| 发明（设计）人： | E·J·M·尤斯森;T·A·R·范埃佩;W·O·普里 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F9/00;G01B9/02 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 杨凯;张志醒 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 位置 测量方法 | ||
【说明书】：
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