[发明专利]光刻装置和器件制造方法有效
| 申请号： | 200510114138.5 | 申请日： | 2005-10-18 |
| 公开（公告）号： | CN1770018A | 公开（公告）日： | 2006-05-10 |
| 发明（设计）人： | J·J·S·M·梅坦斯;S·N·L·多德斯;R·F·德格拉夫;C·A·胡根达姆;A·J·范德内特;F·J·H·M·特尼斯森;P·A·J·廷内曼斯;M·C·M·维哈根;J·J·L·H·维斯帕;E·A·M·范戈佩 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【权利要求书】：
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