[发明专利]硅基片上制备镧钡锰氧功能薄膜的方法无效
| 申请号： | 200510115765.0 | 申请日： | 2005-11-11 |
| 公开（公告）号： | CN1752268A | 公开（公告）日： | 2006-03-29 |
| 发明（设计）人： | 蒋毅坚;常雷;龚小南 | 申请（专利权）人： | 北京工业大学 |
| 主分类号： | C23C14/00 | 分类号： | C23C14/00;C23C14/28;C23C14/02;C23C14/08;C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京思海天达知识产权代理有限公司 | 代理人： | 张慧 |
| 地址： | 100022*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 硅基片上 制备 镧钡锰氧 功能 薄膜 方法 | ||
【权利要求书】：
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京工业大学，未经北京工业大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200510115765.0/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：氧化铋玻璃及其制造方法
- 下一篇：一种钢结硬质合金的制备方法
- 同类专利
- 专利分类
