[发明专利]二氧化硅涂膜形成用组合物、二氧化硅涂膜及其制造方法、以及电子部件无效
申请号: | 200510117095.6 | 申请日: | 2003-02-26 |
公开(公告)号: | CN1769349A | 公开(公告)日: | 2006-05-10 |
发明(设计)人: | 樱井治彰;阿部浩一;榎本和宏;野部茂 | 申请(专利权)人: | 日立化成工业株式会社 |
主分类号: | C08L83/04 | 分类号: | C08L83/04;H01L21/31 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人: | 钟晶 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 二氧化硅 形成 组合 及其 制造 方法 以及 电子 部件 | ||
【权利要求书】:
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