[发明专利]光刻设备及器件制造方法有效
| 申请号： | 200510118070.8 | 申请日： | 2005-10-25 |
| 公开（公告）号： | CN1766739A | 公开（公告）日： | 2006-05-03 |
| 发明（设计）人： | J·J·奥坦斯;J·J·S·M·梅坦斯;F·E·德荣格;K·戈尔曼;B·门奇特奇科夫;E·A·M·范戈佩 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027;H01L21/68 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 原绍辉 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【说明书】：
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