[发明专利]光刻装置以及器件制造方法无效
申请号: | 200510128823.3 | 申请日: | 2005-12-01 |
公开(公告)号: | CN1782886A | 公开(公告)日: | 2006-06-07 |
发明(设计)人: | J·J·M·巴塞曼斯;S·N·L·多德斯;C·A·霍根达姆;J·J·S·M·梅坦斯;J·C·H·穆肯斯;B·斯特里克 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;H01L21/027 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 赵辛 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 光刻 装置 以及 器件 制造 方法 | ||
【权利要求书】:
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司,未经ASML荷兰有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200510128823.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。