[发明专利]光刻设备和器件制造方法无效
| 申请号： | 200510134132.4 | 申请日： | 2005-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN1797214A | 公开（公告）日： | 2006-07-05 |
| 发明（设计）人： | A·J·布里克;J·J·M·巴塞曼斯;M·M·T·M·迪伊里奇斯;C·瓦格纳;L·赖齐科夫;S·Y·斯米诺夫;K·Z·特鲁斯特 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司;ASML控股有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 李亚非;梁永 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【说明书】：
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