[发明专利]隔件形成方法与隔件形成装置有效
| 申请号： | 200580003470.2 | 申请日： | 2005-10-18 |
| 公开（公告）号： | CN1914551A | 公开（公告）日： | 2007-02-14 |
| 发明（设计）人： | 田中保三;村田真朗;汤山纯平;越名浩史;内田宽人;羽根功二;辻孝宪;矢作充 | 申请（专利权）人： | 株式会社爱发科 |
| 主分类号： | G02F1/1339 | 分类号： | G02F1/1339 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 杜日新 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 形成 方法 装置 | ||
【权利要求书】：
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