[发明专利]薄膜形成装置有效
| 申请号： | 200580004527.0 | 申请日： | 2005-02-10 |
| 公开（公告）号： | CN1918321A | 公开（公告）日： | 2007-02-21 |
| 发明（设计）人： | 松元孝文;三上瞬;半泽幸一;守屋峰晴;小田木秀幸;岛田铁也;久保昌司;池田进 | 申请（专利权）人： | 株式会社爱发科 |
| 主分类号： | C23C14/50 | 分类号： | C23C14/50;H01L21/68 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 何腾云 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 薄膜 形成 装置 | ||
【说明书】：
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