[发明专利]在光学无掩模光刻中用于曝光图案和模拟掩模的方法无效
| 申请号： | 200580005833.6 | 申请日： | 2005-02-24 |
| 公开（公告）号： | CN1922550A | 公开（公告）日： | 2007-02-28 |
| 发明（设计）人： | 托布乔恩·桑德斯特罗姆;汉斯·马丁森 | 申请（专利权）人： | 麦克罗尼克激光系统公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B26/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 张波 |
| 地址： | 瑞典*** | 国省代码： | 瑞典;SE |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光学 无掩模 光刻 用于 曝光 图案 模拟 方法 | ||
【说明书】：
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于麦克罗尼克激光系统公司，未经麦克罗尼克激光系统公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200580005833.6/2.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种药物组合物及其制备方法和质量控制方法
- 下一篇：一种梯子
