[发明专利]中空微粒子型氧化钽和/或氧化铌的制造方法无效
申请号: | 200580007671.X | 申请日: | 2005-03-11 |
公开(公告)号: | CN1946638A | 公开(公告)日: | 2007-04-11 |
发明(设计)人: | 菊山裕久;胁雅秀;桥口慎二;青木谦治 | 申请(专利权)人: | 斯特拉化工公司 |
主分类号: | C01G35/00 | 分类号: | C01G35/00;C01G33/00 |
代理公司: | 北京海虹嘉诚知识产权代理有限公司 | 代理人: | 吴小灿;张涛 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 中空 微粒子 氧化 制造 方法 | ||
【说明书】:
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于斯特拉化工公司,未经斯特拉化工公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200580007671.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。