[发明专利]发光器件基片的蚀刻无效
| 申请号： | 200580009426.2 | 申请日： | 2005-01-24 |
| 公开（公告）号： | CN1950955A | 公开（公告）日： | 2007-04-18 |
| 发明（设计）人： | G·H·内格利 | 申请（专利权）人： | 克里公司 |
| 主分类号： | H01L33/00 | 分类号： | H01L33/00;H01L21/04 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 杨凯;陈景峻 |
| 地址： | 美国北卡*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 发光 器件 蚀刻 | ||
【说明书】：
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于克里公司，未经克里公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200580009426.2/2.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
