[发明专利]纳米光刻术和微光刻术用物质组合物

权利要求书

1.制品，包括：

基板层；

抗蚀剂层，其在所述基板层上形成，且含有物质组合物的反应产 物，所述物质组合物，包括：

第一组分，其含有单体部分和至少一个阳离子可聚合官能团；

交联剂，其与所述第一组分反应，且含有至少三个阳离子可聚合 官能团；和

阳离子光敏引发剂；和

内涂层，其被置于所述基板层和所述抗蚀剂层之间。

2.如在权利要求1中所述的制品，其中所述第一组分含有两个阳 离子可聚合官能团。

3.如在权利要求1中所述的制品，其中所述第一组分的所述单体 部分是选自芳基、降冰片烷和它们的组合的有机单体。

4.如在权利要求1中所述的制品，其中所述第一组分的所述单体 部分是含有(SiR₂O)或(SiRO_3/2)单元的有机硅氧烷单体，其中R是氢、 烃或氟碳基。

5.如在权利要求4中所述的制品，其中所述烃为甲基或苯基。

6.如在权利要求1中所述的制品，其中所述第一组分的所述阳离 子可聚合官能团选自环氧官能团、乙烯基醚官能团和它们的组合。

7.如在权利要求1中所述的制品，其中所述第一组分是

8.如在权利要求1中所述的制品，其中所述交联剂含有四个阳离 子可聚合官能团。

9.如在权利要求1中所述的制品，其中所述交联剂含有硅氧烷。

10.如在权利要求1中所述的制品，其中所述交联剂的所述阳离子 可聚合官能团选自环氧官能团、乙烯基醚官能团和它们的组合。

11.如在权利要求1中所述的制品，其中所述交联剂是

12.如在权利要求1中所述的制品，其中所述第一组分和/或所述 交联剂是4-乙烯基-1-环己烷-1，2-环氧化物和SiH-官能硅氧烷化合物 的反应产物。

13.如在权利要求1中所述的制品，其中所述阳离子光敏引发剂包 括活性阳离子种类和阴离子种类，其中所述阳离子种类包括盐。

14.如在权利要求13中所述的制品，其中所述盐是二芳基碘盐、三芳基硫盐或四芳基盐，所述阴离子种类选自BF₄^-、PF₆^-、 AsF₆^-、SbF₆^-和(C₆F₅)₄B^-。

15.如在权利要求1中所述的制品，其中所述第一组分以90-98重 量份存在，所述交联剂以1-9重量份存在，和所述阳离子光敏引发剂以 0.1-2重量份存在，所有含量都基于100重量份所述物质组合物。

16.如在权利要求1中所述的制品，还包括非反应性稀释剂，用于 减少所述物质组合物的粘度。

17.如在权利要求1中所述的制品，其中：

所述第一组分含有两个环氧官能团和所述第一组分的所述单体部 分是有机硅氧烷单体；和

所述交联剂含有硅氧烷和四个环氧官能团。

18.如在权利要求1中所述的制品，其中所述组合物通过旋转涂 布、浸渍涂敷或喷涂被施用于基板上以形成膜。

19.如在权利要求1中所述的制品，其中所述组合物在接触印刷之 前作为液滴被施用于基板上。

20.如在权利要求1中所述的制品，其中所述抗蚀剂膜具有如下通 式：

21.如在权利要求1中所述的制品，其中所述基板层是由硅或玻璃 形成的。