[发明专利]多层结构的工作层的处理方法及其器件无效
| 申请号： | 200580012304.9 | 申请日： | 2005-03-10 |
| 公开（公告）号： | CN1947248A | 公开（公告）日： | 2007-04-11 |
| 发明（设计）人： | F·阿利贝尔;F·布吕尼耶 | 申请（专利权）人： | S.O.I.TEC绝缘体上硅技术公司 |
| 主分类号： | H01L23/544 | 分类号： | H01L23/544 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 程伟 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 多层 结构 工作 处理 方法 及其 器件 | ||
【权利要求书】：
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