[发明专利]判断光刻系统的照射器的照射强度轮廓的装置及方法有效
| 申请号： | 200580013170.2 | 申请日： | 2005-04-20 |
| 公开（公告）号： | CN1997941A | 公开（公告）日： | 2007-07-11 |
| 发明（设计）人： | C·A·斯彭斯;T·P·卢坎奇;L·卡波迪耶奇;J·赖斯;S·N·麦高恩 | 申请（专利权）人： | 先进微装置公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 戈泊;程伟 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 判断 光刻 系统 照射 强度 轮廓 装置 方法 | ||
【权利要求书】：
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