[发明专利]可变式四磁控管阵列，特别适用于多步骤工艺以在溅射反应器中形成金属阻挡层有效
| 申请号： | 200580013590.0 | 申请日： | 2005-05-20 |
| 公开（公告）号： | CN1950538A | 公开（公告）日： | 2007-04-18 |
| 发明（设计）人： | 则敬·龚;付新宇;阿尔文德·森达娜简;爱德华·P·IV·哈蒙德;普拉巴拉姆·戈帕拉杰;约翰·C·福斯特;马克·A·佩林;安德鲁·S·吉拉德 | 申请（专利权）人： | 应用材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C16/00;C23F1/02 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 徐金国;梁挥 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 可变 式四磁控管 阵列 特别 适用于 步骤 工艺 溅射 反应器 形成 金属 阻挡 | ||
【说明书】：
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