[发明专利]有机二氧化硅系膜及形成法、布线结构体、半导体装置及膜形成用组合物有效
| 申请号： | 200580015093.4 | 申请日： | 2005-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN1957020A | 公开（公告）日： | 2007-05-02 |
| 发明（设计）人： | 秋山将宏;中川恭志;山中达也;盐田淳;黑泽孝彦 | 申请（专利权）人： | JSR株式会社 |
| 主分类号： | C08G77/50 | 分类号： | C08G77/50;C08G77/42;C08L83/14;C09D183/14;H01B3/46;H01L21/312 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 苗堃;刘继富 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 有机 二氧化硅 形成 布线 结构 半导体 装置 组合 | ||
【说明书】：
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