[发明专利]用于金属栅极集成的栅极堆叠及栅极堆叠蚀刻顺序有效
| 申请号： | 200580017509.6 | 申请日： | 2005-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN1961429A | 公开（公告）日： | 2007-05-09 |
| 发明（设计）人： | 马克·R·维索凯 | 申请（专利权）人： | 德州仪器公司 |
| 主分类号： | H01L29/78 | 分类号： | H01L29/78;H01L21/471;H01L21/441;H01L21/4763;H01L21/467 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 王允方;刘国伟 |
| 地址： | 美国得*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 金属 栅极 集成 堆叠 蚀刻 顺序 | ||
【权利要求书】：
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