[发明专利]具有多层表面的地砖

权利要求书

1.一种用于在地板组件中使用的合成地砖，包括：

限定所述地砖周围边界的周壁；

至少部分地容纳在所述周壁中的表面，所述表面包括多个层；以及

构造成支承所述表面的支承结构。

2.根据权利要求1所述的合成地砖，其特征在于，所述表面包括双层表面构造。

3.根据权利要求2所述的合成地砖，其特征在于，所述双层表面构造包括：

具有顶部表面的上部格架；和

下部格架，该下部格架具有位于所述上部格架的所述顶部表面下方的顶部表面。

4.根据权利要求3所述的合成地砖，其特征在于，所述下部格架的所述顶部表面构造成位于所述上部格架的所述顶部表面下方0.1英寸处。

5.根据权利要求3所述的合成地砖，其特征在于，所述下部格架取向成基本横向于所述上部格架。

6.根据权利要求1所述的合成地砖，其特征在于，所述表面包括网格状的构造。

7.根据权利要求3所述的合成地砖，其特征在于，所述上部格架和下部格架彼此一体地形成。

8.根据权利要求1所述的合成地砖，其特征在于，所述支承结构包括不连续的垂直支柱。

9.根据权利要求1所述的合成地砖，其特征在于，该合成地砖还包括用于将所述地砖连接到至少一块其它地砖上的装置。

10.根据权利要求9所述的合成地砖，其特征在于，所述用于连接的装置包括多个环接头和销接头，每一个接头均位于周壁附近且构造成便于所述地砖与相邻地砖的互连。

11.根据权利要求10所述的合成地砖，其特征在于，所述环接头还包括加强件，该加强件构造成加强所述环接头和所述地砖的所述周壁之间的联系，从而提高所述环接头承受施加于其上的各个力的强度。

12.根据权利要求11所述的合成地砖，其特征在于，所述加强件构造成在所述环接头的上表面和所述周壁的一部分之间延伸。

13.根据权利要求10所述的合成地砖，其特征在于，所述销接头包括加强件，该加强件构造成通过将各个力作用在所述销接头上的负荷沿着所述销接头的更大部分分布，来降低或减小销接头中的应力。

14.根据权利要求13所述的合成地砖，其特征在于，所述加强件包括具有一定半径的非线性弯曲部分，该弯曲部分从所述销接头的边缘表面延伸到所述周壁的底部表面。

15.根据权利要求1所述的合成地砖，其特征在于，所述表面包括三层表面构造。

16.根据权利要求1所述的合成地砖，其特征在于，所述表面包括四层表面构造。

17.一种构造成用于地板组件的合成地砖，该合成地砖包括：

具有上部格架和下部格架的网格型顶部表面，其中下部格架取向成基本上横向于上部格架，且上部和下部格架一体地形成并提供通过其中的排水间隙，

所述下部格架包括位于上部格架顶部表面下方的顶部表面，以便从上部格架的顶部表面汲取残留的水分。

18.根据权利要求17所述的合成地砖，其特征在于，该合成地砖还包括支承结构，该支承结构构造成在支承表面上支承顶部表面，并在顶部表面下方提供排水通道。

19.一种合成地砖，包括：

围绕地砖周围边界的周壁；

具有上部格架和下部格架的顶部表面，该上部格架形成在周壁中延伸的网格，该下部格架也形成在周壁中延伸的网格，并且下部格架取向成基本横向于上部格架，

所述上部和下部格架一体地形成以提供通过其中的排水间隙。

20.根据权利要求19所述的合成地砖，其特征在于，下部格架包括位于上部格架顶部表面下方的顶部表面，以便汲取上部格架顶部表面下方残留的水分。

21.根据权利要求19所述的合成地砖，其特征在于，该合成地砖还包括位于周壁附近且构造成便于所述地砖与类似的相邻地砖互连的环接头和销接头。