[发明专利]稳定的和可重复的等离子体离子注入的方法有效
| 申请号： | 200580020902.0 | 申请日： | 2005-05-09 |
| 公开（公告）号： | CN1998062A | 公开（公告）日： | 2007-07-11 |
| 发明（设计）人： | 史蒂文·R·沃尔特;方子伟;贾斯廷·托科;卡勒顿·F·埃利斯三世 | 申请（专利权）人： | 瓦里安半导体设备联合公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/223;C23C14/48 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 杨生平;杨红梅 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 稳定 重复 等离子体 离子 注入 方法 | ||
【说明书】：
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