[发明专利]连续腔室的耐环境的挡墙砌块及其使用方法无效
申请号: | 200580022296.6 | 申请日: | 2005-05-11 |
公开(公告)号: | CN101124366A | 公开(公告)日: | 2008-02-13 |
发明(设计)人: | 约翰·菲茨杰拉德·多兰;爱德华·艾伦·克努森 | 申请(专利权)人: | 新科技资源有限公司 |
主分类号: | E02D29/02 | 分类号: | E02D29/02 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 王琼 |
地址: | 美国明*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 连续 环境 挡墙 砌块 及其 使用方法 | ||
1.一种抗劣化挡墙砌块,包括:
前部墙板,包括抗劣化合成或者聚合材料,并且具有模制的和/或制造的前表面,以提供纹理和颜色,从而形成土制外观;
后部墙板,包括抗劣化的合成或者聚合材料;和
一个或者多个侧部墙板,包括抗劣化的合成或者聚合材料,所述侧部墙板被可操作地连接到前部墙板和后部墙板中的一个或者两个,以形成腔室;
一个或者多个固定裙板,可操作地连接到前部墙板、后部墙板和侧部墙板中的一个或者多个;和
开口的顶部表面,不包括顶部墙板或者包括部分顶部墙板,所述部分顶部墙板从前部墙板的前边缘向后延伸的长度不超过所述砌块的宽度的75%。
2.如权利要求1所述的抗劣化砌块,其特征在于,所述前部墙板、后部墙板和侧部墙板利用一个或者多个固定机构连接。
3.如权利要求1所述的抗劣化砌块,其特征在于,所述砌块还包括一种或者多种填充材料,所述填充材料被放置到所述抗劣化挡墙砌块的腔室中。
4.如权利要求1所述的抗劣化砌块,其特征在于,所述合成或者聚合材料选自包括下列材料的组:聚乙烯、聚丙烯、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯(ABS)、聚(对苯二甲酸丁二醇酯)(PBT)、聚(对苯二甲酸环己烷对二甲醇酯)(PCT)、苯乙烯-丙烯腈共聚物(SAN)、聚苯乙烯、聚碳酸酯及其组合。
5.如权利要求1所述的抗劣化砌块,其特征在于,所述砌块还包括一个以上的单元以形成多单元砌块。
6.如权利要求5所述的抗劣化砌块,其特征在于,所述多单元砌块还包括一个或多个脱离翼片。
7.如权利要求1所述的抗劣化砌块,其特征在于,所述砌块还包括一个或者多个固定装置,所述固定装置选自包括保持凸缘、栓和锁定机构的组。
8.如权利要求1所述的抗劣化砌块,其特征在于,所述固定机构是T形钩和T形槽系统或者是销孔式系统。
9.如权利要求2所述的抗劣化砌块,其特征在于,所述填充材料选自包括沙子、沙砾、泥土、碎石、细砾和混凝土的组。
10.如权利要求1所述的抗劣化砌块,其特征在于,所述砌块包括一个或者多个隔板。
11.一种抗劣化挡墙墙板砌块,包括:
前部墙板,包括抗劣化的合成或者聚合材料,并且具有模制的或制造的前表面,以提供土制外观的纹理和颜色;
后部墙板,包括抗劣化的合成或者聚合材料;和
一个或者多个侧部墙板,包括抗劣化的合成或者聚合材料,所述侧部墙板通过一个或者多个固定机构可操作地连接到前部墙板和后部墙板中的一个或者两个,以形成腔室。
12.如权利要求11所述的墙板砌块,其特征在于,还包括一种或者多种填充材料,所述填充材料被放置到墙板砌块的腔室中。
13.如权利要求11所述的墙板砌块,其特征在于,所述后部墙板以及一个或多个侧部墙板是整体的,并且不需要固定机构以连接所述墙板。
14.如权利要求11所述的墙板砌块,其特征在于,所述砌块还包括一个以上的单元,以形成多单元的墙板砌块。
15.如权利要求11所述的墙板砌块,其特征在于,所述固定机构是T形钩和T形槽系统或者销孔式系统。
16.如权利要求11所述的墙板砌块,其特征在于,所述砌块还包括一个或者多个隔板。
17.如权利要求11所述的墙板砌块,其特征在于,所述砌块还包括部分顶部墙板、底部墙板或者部分顶部和底部墙板。
18.如权利要求11所述的墙板砌块,其特征在于,所述前部墙板包括模制的和/或制造的前表面,以提供纹理和颜色,从而形成土制外观。
19.一种建造抗劣化挡墙的方法,包括:
a)把多个权利要求1所述的抗劣化挡墙砌块设置在一行中;
b)利用一种或者多种填充材料填充所述行中的每个砌块的腔室;
c)将第二行抗劣化挡墙砌块定位在第一行抗劣化挡墙砌块的上面;
d)利用填充材料填充第二行抗劣化挡墙砌块;
e)继续前面所述步骤直到完成期望的行数。
20.一种包括多个墙板砌块的抗劣化挡墙,包括:
前部墙板,包括抗劣化的合成或者聚合材料,并且具有模制的或制造的前表面,以提供土制外观的纹理和颜色;
后部墙板,包括抗劣化的合成或者聚合材料;和
一个或者多个侧部墙板,包括抗劣化的合成或者聚合材料,所述侧部墙板通过一个或者多个固定机构可操作地连接到前部墙板和后部墙板中的一个或者两个,以形成腔室。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于新科技资源有限公司,未经新科技资源有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200580022296.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。