[发明专利]用于产生均匀可调的微波等离子体的等离子体喷嘴阵列无效
申请号: | 200580025065.0 | 申请日: | 2005-07-21 |
公开(公告)号: | CN101066000A | 公开(公告)日: | 2007-10-31 |
发明(设计)人: | 李相勋;金重秀 | 申请(专利权)人: | 阿玛仁特技术有限公司;诺日士钢机株式会社 |
主分类号: | H05H1/46 | 分类号: | H05H1/46;H01J37/32 |
代理公司: | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 武玉琴;张友文 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 产生 均匀 可调 微波 等离子体 喷嘴 阵列 | ||
1.一种设置微波等离子体喷嘴阵列的方法,包括以下步骤:
沿相反的方向将微波引入微波空腔内,使微波发生干涉并在微波空腔内形成静态的稳定微波图;
调节所述微波中至少一个微波的相位以控制由稳定微波图产生的高能量域;以及
将喷嘴阵列至少部分地设置在微波空腔内,使喷嘴阵列中的一个或多个喷嘴部件从对应的一个高能量域中接收微波能量,
每个喷嘴包括:
a)气流管,其适于引导从其中经过的气流并具有入口部和出口部;
b)所述出口部设置于所述微波空腔的外侧;
c)沿轴向设置在所述气流管中的棒状导体,所述棒状导体具有尖端和收集部,(c1)所述收集部设置于所述微波空腔中以接收位于所述收集部的微波,(c2)沿所述棒状导体的表面传输接收的微波,(c3)将所述微波聚集在所述尖端上,以及(c4)所述尖端相邻于所述出口部设置。
2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述引入微波的步骤包括以下步骤:
将微波传输至微波空腔;以及
利用与微波空腔操作性连接的滑动式短路来反射微波。
3.根据权利要求1所述的方法,其中,所述引入微波的步骤包括以下步骤:
将由两个微波能量头产生的微波传输至微波空腔。
4.一种设置微波等离子体喷嘴阵列的方法,包括以下步骤:
沿第一轴线、以相反的方向将第一对微波引入微波空腔内;
沿第二轴线、以相反的方向将第二对微波引入微波空腔内,所述第一轴线垂直于所述第二轴线,使得第一对和第二对微波发生干涉并在微波空腔内形成静态的高能量域;
调节所述微波中至少一个微波的相位以控制高能量域;
将喷嘴阵列至少部分地设置在微波空腔内,使喷嘴阵列中的一个或多个喷嘴部件从对应的一个高能量域中接收微波能量。
5.根据权利要求4所述的方法,其中,所述引入第一对微波的步骤包括以下步骤:
将微波传输至微波空腔;以及
利用与微波空腔操作性连接的滑动式短路来反射微波。
6.根据权利要求4所述的方法,其中,所述引入第一对微波的步骤包括以下步骤:
将由两个微波能量头产生的微波传输至微波空腔。
7.根据权利要求4所述的方法,还包括以下步骤:
通过微波能量头产生微波;以及
设置与微波能量头连接的功率分流器。
8.根据权利要求4所述的方法,其中,所述调节至少一个微波的相位的步骤包括调节第一对微波的相位。
9.根据权利要求4所述的方法,其中,所述调节至少一个微波的相位的步骤包括调节第二对微波的相位。
10.根据权利要求4所述的方法,其中,所述调节至少一个微波的相位的步骤包括调节第一对微波和第二对微波的相位。
11.一种微波等离子体喷嘴阵列单元,包括:
微波空腔;以及
喷嘴阵列,每个所述喷嘴包括:
a)气流管,其适于引导从其中经过的气流并具有入口部和出口部;
b)所述出口部设置于所述微波空腔的外侧;
c)沿轴向设置在所述气流管中的棒状导体,所述棒状导体具有尖端和收集部,(c1)所述收集部设置于所述微波空腔中以接收位于所述收集部的微波,(c2)沿所述棒状导体的表面传输接收的微波,(c3)将所述微波聚集在所述尖端上,以及(c4)所述尖端相邻于所述出口部设置。
12.根据权利要求11所述的微波等离子体喷嘴阵列单元,其中,每个所述喷嘴还包括:
设置在所述棒状导体与所述气流管之间的涡流引导件,所述涡流引导件具有至少一个通道,使沿着所述至少一个通道通过的气体具有绕所述棒状导体的螺旋形流动方向。
13.根据权利要求12所述的微波等离子体喷嘴阵列单元,其中,所述微波空腔包括壁,所述微波空腔的壁形成与所述气流管的入口部操作性连接的一部分气流通道。
14.根据权利要求11所述的微波等离子体喷嘴阵列单元,其中,每个所述喷嘴还包括:
相邻于所述气流管的一部分设置的屏蔽件,用于减小穿过所述气流管时的微波能量损失,所述屏蔽件由导体材料制成。
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