[发明专利]具有挠度补偿辊子的压花装置无效
申请号: | 200580027471.0 | 申请日: | 2005-08-05 |
公开(公告)号: | CN101103204A | 公开(公告)日: | 2008-01-09 |
发明(设计)人: | R·科霍南;P·科伊武库纳斯 | 申请(专利权)人: | 阿万托尼有限公司 |
主分类号: | F16C13/00 | 分类号: | F16C13/00;B31F1/07 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 曹若 |
地址: | 芬兰*** | 国省代码: | 芬兰;FI |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 挠度 补偿 辊子 压花 装置 | ||
1、一种用于在基片(30)的表层(40)上成型微结构的设备(1000),所述设备(1000)至少包括用于施加压花压力到所述基片(30)的表层(40)上的一个压花辊子(10)和一个支持辊子(20),其中
在压花辊子(10)外表面上的第一端部区域(ER1)中,设置第一点以施加第一压花压力(p1)到基片(30)的表层(40)上,
在压花辊子(10)外表面上的第二端部区域(ER2)中,设置第二点以施加第二压花压力(p2)到基片(30)的表层(40)上,及
在位于压花辊子(10)外表面上的所述第一点和所述第二点之间设置第三点以施加第三压花压力(p3)到基片(30)的表层(40)上,
其特征在于,所述设备(1000)还包括用于设置所述第三压花压力(p3)至少等于或高于所述第一压花压力(p1)和所述第二压花压力(p2)的装置(29,140)。
2、如权利要求1所述的设备,其特征在于,通过所述压花辊子(10)施加到所述基片(30)的表层(40)上的压花压力布置成至少在所述第一点、所述第二点和所述第三点处可单独调整。
3、如权利要求1或2所述的设备,其特征在于,所述压花辊子(10)和/或支持辊子(20)包括一个圆筒形外壳(19,29)和位于所述外壳(19,29)中的轴(12,22),其中所述外壳和轴在所述支持辊子的中心区域(CR)处彼此连结,以便所述外壳(19,29)的端部位置相对于所述外壳(19,29)中的所述轴(12,22)可变化。
4、如权利要求1到3中任一所述的设备,其特征在于,其包括至少一个至少局部影响压花压力的执行器(140),所述执行器具有一个手动的、液动的、气动的和/或电动机械工作原理和/或其基于记忆金属的使用。
5、如权利要求1-4中任一所述的设备,其特征在于,所述设备(1000)包括至少一个测量设备(141),其被设置来直接或间接测量通过压花辊子(10)施加在所述基片表层(40)上的压花压力。
6、如权利要求1-5中任一所述的设备,其特征在于,所述设备(1000)包括至少一个测量设备(180),其被设置来测量基片(30)及其表层(40)的总厚度。
7、如权利要求1-6中任一所述的设备,其特征在于,所述设备(1000)包括至少一个光学测量设备(200),其被设置来测量来自基片表面(40)的光衍射,其中在所述基片(30)表层(40)的至少一个位置上,压花压力被设置成基于由所述光学测量设备(200)产生的信号(221)至少部分可调。
8、如权利要求1-7中任一所述的设备,其特征在于,支持辊子(20)的表面具有部分可压缩表层(21)。
9、如权利要求8所述的设备,其特征在于,支持辊子(20)表面上的部分可压缩表层(21)由环氧树脂或聚合物构成。
10、如权利要求1-9中任一所述的设备,其特征在于,所述设备(1000)包括用于加热基片(30)表层(40)的装置。
11、如权利要求10所述的设备,其特征在于,基片(30)表层(40)的空间温度分布是可调的。
12、如权利要求1-11中任一所述的设备,其特征在于,所述设备(1000)包括用于加热所述压花辊子(10)的表层(11)的装置。
13、如权利要求12所述的设备,其特征在于,所述压花辊子(10)的表层(11)上的空间温度分布是可调的。
14、如权利要求1-13中任一所述的设备,其特征在于,所述压花辊子(10)的轴承间距大于或等于0.2米。
15、如权利要求1-14中任一所述的设备,其特征在于,所述压花辊子(10)的轴承间距大于或等于1米。
16、如权利要求1-15中任一所述的设备,其特征在于,所述压花辊子(10)的周长从以下列表中选择:标准A4纸的高度(29.7cm),标准A4纸的高度(29.7cm)的倍数,标准A4纸的宽度(21cm),标准A4纸的宽度(21cm)的倍数,标准信纸的高度(27.9cm),标准信纸的高度(27.9cm)的倍数,标准信纸的宽度(21.6cm),标准信纸的宽度(21.6cm)的倍数。
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