[发明专利]具有菲涅尔结构的光学器件无效
申请号: | 200580029931.3 | 申请日: | 2005-08-22 |
公开(公告)号: | CN101073022A | 公开(公告)日: | 2007-11-14 |
发明(设计)人: | B·亨德里克斯;E·维斯特根 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
主分类号: | G02B3/08 | 分类号: | G02B3/08;G02B3/14;G02B27/42;G02F1/29;G11B7/135;G02B5/18 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 王岳;陈景峻 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 菲涅尔 结构 光学 器件 | ||
1.一种包含菲涅尔结构(101)的光学器件,该菲涅尔结构(101)被设计成在透过所述菲涅尔结构的辐射光束中引入至少一个相位跃变,所述光学器件进一步包含阶梯结构(102)用来补偿所述相位跃变。
2.如权利要求1所述的光学器件,其中所述菲涅尔结构具有第一折射率并且所述阶梯结构具有第二、更高的折射率。
3.如权利要求1所述的光学器件,所述的光学器件进一步包括与所述菲涅尔结构接触的材料(300),所述材料具有可以通过施加电压改变的折射率。
4.如权利要求3所述的光学器件,其中所述的菲涅尔结构、所述材料和所述阶梯结构构成一个且相同单元的部分。
5.如权利要求3所述的光学器件,所述光学器件包括
-第一菲涅尔结构(401),其被设计成在透过所述第一菲涅尔结构的辐射光束中引入至少第一相位跃变,
-第二菲涅尔结构(411),其被设计成在透过所述第二菲涅尔结构的辐射光束中引入至少第二相位跃变,
-与所述第一菲涅尔结构接触的第一双折射材料(403),所述第一双折射材料具有第一非寻常光轴,
-与所述第二菲涅尔结构接触的第二双折射材料(413),所述第二双折射材料具有与第一非寻常光轴垂直的第二非寻常光轴,
-改动第一和第二双折射材料的非寻常折射率使得第一和第二双折射材料的非寻常折射率基本上保持相等的装置,
-用于补偿所述第一和第二相位跃变的装置(411,412,420)。
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