[发明专利]用于形成连接件的方法以及连接件有效
申请号: | 200580030735.8 | 申请日: | 2005-08-23 |
公开(公告)号: | CN101090799A | 公开(公告)日: | 2007-12-19 |
发明(设计)人: | 卡尔·迈尔霍费尔;鲁多夫·格鲁伯 | 申请(专利权)人: | 西门子VAI金属技术两合公司 |
主分类号: | B23P11/00 | 分类号: | B23P11/00;F16D1/072;B23P11/02;F16B4/00 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 钟强;樊卫民 |
地址: | 奥地*** | 国省代码: | 奥地利;AT |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 形成 连接 方法 以及 | ||
1.一种用于形成连接件的接触面(6、6a、6b)和相对接触面(7、7a、7b)的方法,所述连接件由至少两个构件组成,用于将压力负载从第一构件(1)传递向至少一个第二构件(2、2a、2b),
其中,第一构件(1)的几何支撑面(3)和第二构件(2)的几何支撑面(4、4a、4b)的重叠区域(5)在其几何层面上限定为第一构件的接触面(6、6a、6b)和第二构件的相对接触面(7、7a、7b),其中接触面和相对接触面完全互相重叠,其中从所限定的接触面和相对接触面的所有边缘开始,形成凹槽,其中第一和第二构件的支撑面上的那些接触面和相对接触面以外的区域与接触面和相对接触面在空间上偏离,其中,接触面和相对接触面上的凹槽由凹槽面(8、8a、8b、8c、8d、8e、8f、8g、8h)形成,该凹槽面在接触面和相对接触面的切线上分别与该接触面和相对接触面近似正交并且对于其他支撑面形成切口,并且所述切口是倒圆。
2.如权利要求1所述的方法,其中,所述凹槽的轮廓的剖面近似形成为椭圆的一部分。
3.如权利要求1或2所述的方法,其中,所述凹槽的轮廓的剖面近似形成为椭圆拱。
4.如权利要求1所述的方法,其中,在连接件由三个构件(1、2a、2b)组成的情况中,沿共同接触线(L)形成凹槽面(8a、8b、8c、8d),其形成封闭的环状空间(16)或者剖面封闭且在纵向上围绕接触线(L)的凹槽通道(31)。
5.如权利要求1所述的方法,其中,接触面或相对接触面中的至少一个具有弧面(24)。
6.如权利要求5所述的方法,其中,接触面或相对接触面的弧面(24)的轮廓形成为在至少一个剖面具有至少部分凸起且渐变的曲线。
7.如权利要求6所述的方法,其中,接触面或相对接触面的弧面(24)的轮廓在至少一个剖面由至少两个渐变的曲线段形成,其中至少一个曲线段具有凸起的曲线外形,并且在与过渡点相邻的曲线段提供渐变性。
8.如权利要求5所述的方法,其中,接触面或相对接触面的弧面(24)的轮廓由三个曲线段形成,其中中间曲线段由直线形成以及相邻曲线段由凸起曲线形成。
9.如权利要求5所述的方法,其中,接触面或相对接触面的弧面(24)的轮廓在至少一个剖面中形成有具有双凸起且对称的曲线。
10.如权利要求1所述的方法,其中,具有接触面的第一构件和具有相对接触面的第二构件形成收缩接合。
11.如权利要求10所述的方法,其中,第一构件由可驱动的轴形成,第二构件由转矩传递元件形成。
12.如权利要求1所述的方法,其中,第一构件由具有在十字头中间设置的盲孔的轧机架支柱(16)形成,第二构件由轴向支撑在盲孔中且具有丝杠的旋压螺母(17)形成。
13.一种由至少两个构件组成的连接件,用于将压力负载从第一构件(1)传递向至少一个第二构件(2),其中第一构件具有与第二构件的相对接触面(7、7a、7b)邻接的接触面(6、6a、6b),这种连接件通过权利要求1-12中的任一项所述的方法制造,其中,接触面和相对接触面完全互相重叠,其中从接触面和相对接触面的所有边缘开始设有凹槽(8、8a、8b、8c、8d、8e、8f、8g、8h),并且其中,接触面和相对接触面上的凹槽由凹槽面(8、8a、8b、8c、8d、8e、8f)形成,这些凹槽面在与接触面和相对接触面的切线上分别与接触面和相对接触面近似正交并且在空间弯曲的凹槽面的情况下形成切口,并且所述切口是倒圆。
14.如权利要求13所述的连接件,其中,所述凹槽面的轮廓的一个剖面近似由椭圆的一部分形成。
15.如权利要求13所述的连接件,其中,所述凹槽面的轮廓的一个剖面近似由椭圆拱形成。
16.如权利要求13所述的连接件,其中,在连接件由三个构件(1、2a、2b)组成的情况中,沿共同接触线(L)设置凹槽面(8a、8b、8c、8d),其形成封闭的环状空间(16)或者剖面封闭且在纵向上围绕接触线(L)的凹槽通道(31)。
17.如权利要求13所述的连接件,其中,接触面或相对接触面中的至少一个具有弧面(24)。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西门子VAI金属技术两合公司,未经西门子VAI金属技术两合公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200580030735.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种工作面支架控制器使用的耦合器
- 下一篇:大豆高F值寡肽的制备技术