[发明专利]为声能源供电的系统和方法及其在基板处理中的使用有效
申请号: | 200580030943.8 | 申请日: | 2005-09-15 |
公开(公告)号: | CN101124053A | 公开(公告)日: | 2008-02-13 |
发明(设计)人: | J·科贝勒;I·卡什科什;J·沃柯特;M·彼得斯 | 申请(专利权)人: | 艾奎昂技术股份有限公司 |
主分类号: | B08B3/12 | 分类号: | B08B3/12;B08B7/04 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 钱慰民 |
地址: | 美国特*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 能源 供电 系统 方法 及其 处理 中的 使用 | ||
1.一种用声能处理基板的方法,包括:
a)将至少一块基板支承在处理腔内;
b)产生基带电信号;
c)将所述基带电信号传送至放大器,所述放大器将所述基带电信号转换成具有峰值振幅的输出电信号;
d)将所述输出电信号传送至换能器,所述换能器将所述输出电信号转换成相应的声能;
e)将所述声能作用于支承在所述处理腔内的所述至少一块基板;以及
f)使所述输出电信号的峰值振幅斜变。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,步骤f)包括在启动过程中将所述输出电信号的峰值振幅从基本为零的值增大至工作值。
3.如权利要求2所述的方法,其特征在于,步骤f)是在0.0001到10秒的时间范围内进行的。
4.如权利要求3所述的方法,其特征在于,步骤f)是在0.001到1秒的时间范围内执行。
5.如权利要求3所述的方法,其特征在于,所述峰值振幅的工作值在1到20瓦的范围内,所述处理腔是单块基板腔。
6.如权利要求3所述的方法,其特征在于,所述峰值振幅的工作值在200到500瓦的范围内,所述处理腔是成批处理腔。
7.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述斜变步骤f)是通过在步骤c)期间将斜变的基带电信号传送至所述放大器来执行的。
8.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述斜变步骤f)是在步骤c)的所述转换处理期间由所述放大器执行的。
9.如权利要求1所述的方法,其特征在于,步骤f)中的所述峰值振幅的斜变不是阶跃函数。
10.如权利要求9所述的方法,其特征在于,步骤f)中的所述峰值振幅的斜变是直线、抛物线或S曲线函数。
11.如权利要求1所述的方法,其特征在于,步骤f)包括以循环方式在预定范围内重复地增大和减小所述输出电信号的峰值振幅。
12.如权利要求11所述的方法,其特征在于,所述预定范围在工作值和所述工作值的一个百分数之间,所述百分数大于或等于10%。
13.如权利要求1所述的方法,其特征在于,步骤f)包括以循环方式在最小值和工作值之间重复地增大和减小所述输出电信号的峰值振幅。
14.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述输出电信号具有一频率,所述方法还包括在将所述声能作用于所述基板期间改变所述输出电信号的频率。
15.如权利要求14所述的方法,其特征在于,所述输出电信号的频率从所述换能器的主工作频率改变至所述换能器的至少一个副工作频率。
16.如权利要求14所述的方法,其特征在于,所述改变输出电信号频率的步骤是通过在生成期间改变所述基带电信号的频率来实现的。
17.如权利要求14所述的方法,其特征在于,所述输出电信号的频率在旨在协助将不同尺寸的微粒从所述基板上去除的预定范围内变化。
18.如权利要求14所述的方法,其特征在于,所述改变步骤包括在所述预定范围内重复地增大和/或减小所述输出电信号的频率。
19.如权利要求18所述的方法,其特征在于,所述预定范围在所述换能器的主工作频率的+/-10%内,所述换能器由压电晶体构成。
20.如权利要求18所述的方法,其特征在于,所述预定范围在所述换能器的主工作频率的+/-1%内,所述换能器由压电晶体构成。
21.如权利要求1所述的方法,其特征在于,步骤c)的所述转换是由可操作地耦合于所述放大器的模拟波形发生器执行的。
22.如权利要求1所述的方法,其特征在于,还包括:
将清洗液薄膜涂覆于支承在所述处理腔中的所述基板表面上,所述基板被支承在基本水平的方向上;
其中所述换能器可操作地耦合于发射器,所述发射器耦合于所述清洗液薄膜;
其中步骤e)包括由所述发射器通过所述清洗液薄膜将所述声能发射至所述基板的表面。
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