[发明专利]阻挡膜形成用内部电极以及成膜装置

权利要求书

1.一种阻挡膜形成用内部电极，其插入具有口部的塑料容器的内部，向该塑料容器内供给介质气体，并向设置在所述塑料容器外部的外部电极供给高频电力，从而在塑料容器内表面产生放电等离子体，并在塑料容器的内表面形成阻挡膜，其特征在于，设有：

气体供给管，具有用于供给介质气体的气体流路；和

绝缘部件，具有与所述气体供给管的端部连通的气体喷出口，

所述绝缘部件具有螺合或者嵌合在气体供给管端部的防落下构造。

2.如权利要求1所述的阻挡膜形成用内部电极，其特征在于，

在所述气体供给管和所述绝缘部件之间夹设密封部。

3.如权利要求1所述的阻挡膜形成用内部电极，其特征在于，

所述绝缘部件的防落下构造，具有平齐地螺合于气体供给管的端部，并与所述气体流路连通的气体喷出口。

4.如权利要求1所述的阻挡膜形成用内部电极，其特征在于，

所述绝缘部件的防落下构造，具有平齐地螺合于气体供给管的端部，并与所述气体流路连通的气体喷出口，

在所述气体供给管上一体设置等离子体发生部，所述等离子体发生部具有至少一个以上的突起部或者凹陷部。

5.如权利要求1所述的阻挡膜形成用内部电极，其特征在于，

所述绝缘部件的防落下构造，具有平齐地螺合于气体供给管的端部，并与所述气体流路连通的气体喷出口，

在所述气体供给管上一体设置等离子体发生部，所述等离子体发生部具有至少一个以上的突起部或者凹陷部，并由导热率高的材料构成。

6.如权利要求1所述的阻挡膜形成用内部电极，其特征在于，

所述绝缘部件的防落下构造，具有通过粘结剂一体设置在形成于所述气体供给管端部的凹部内，并与所述气体流路连通的气体喷出口。

7.如权利要求1所述的阻挡膜形成用内部电极，其特征在于，

所述绝缘部件的防落下构造，具有通过粘结剂一体设置在形成于所述气体供给管端部的凹部内，并与所述气体流路连通的气体喷出口，

对所述凹部的前端进行敛缝。

8.如权利要求1所述的阻挡膜形成用内部电极，其特征在于，

所述绝缘部件的防落下构造，具有通过粘结剂一体设置在形成于所述气体供给管端部的凹部内，并与所述气体流路连通的气体喷出口，

在所述气体供给管上一体设置等离子体发生部，所述等离子体发生部具有至少一个以上的突起部或者凹陷部。

9.如权利要求1所述的阻挡膜形成用内部电极，其特征在于，

所述绝缘部件的防落下构造，具有通过粘结剂一体设置在形成于所述气体供给管端部的凹部内，并与所述气体流路连通的气体喷出口，

在所述气体供给管上一体设置等离子体发生部，所述等离子体发生部具有至少一个以上的突起部或者凹陷部，并由导热率高的材料构成。

10.如权利要求1所述的阻挡膜形成用内部电极，其特征在于，

所述绝缘部件的防落下构造，具有：嵌合于在所述气体供给管端部形成的凹部内的膨出部；和与所述气体流路连通的气体喷出口。

11.如权利要求1所述的阻挡膜形成用内部电极，其特征在于，

所述绝缘部件的防落下构造，具有嵌合于在所述气体供给管端部形成的凹部内的膨出部；和与所述气体流路连通的气体喷出口，

对所述凹部的前端进行敛缝。

12.如权利要求1所述的阻挡膜形成用内部电极，其特征在于，

所述绝缘部件的防落下构造，具有嵌合于在所述气体供给管端部形成的凹部内的膨出部；和与所述气体流路连通的气体喷出口，

在所述气体供给管上一体设置等离子体发生部，所述等离子体发生部具有至少一个以上的突起部或者凹陷部。

13.如权利要求1所述的阻挡膜形成用内部电极，其特征在于，

所述绝缘部件的防落下构造，具有嵌合于在所述气体供给管端部形成的凹部内的膨出部；和与所述气体流路连通的气体喷出口，

在所述气体供给管上一体设置等离子体发生部，所述等离子体发生部具有至少一个以上的突起部或者凹陷部，并由导热率高的材料构成。