[发明专利]固态浸没透镜微影术无效
| 申请号： | 200580033714.1 | 申请日： | 2005-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN101124521A | 公开（公告）日： | 2008-02-13 |
| 发明（设计）人： | R·R·戈鲁甘苏;M·R·布鲁斯 | 申请（专利权）人： | 先进微装置公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 戈泊;程伟 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 固态 浸没 透镜 微影术 | ||
1.一种装置，包括：
具有第一面及第二面的抗蚀膜(40)，其中，该第二面为第一面的相对面；以及
位于该抗蚀膜(40)的第一面上的一个或多个固态浸没透镜(56)。
2.如权利要求1所述的装置，包括位于该一个或多个固态浸没透镜(56)上的曝光掩膜(49)。
3.如权利要求2所述的装置，其中，该曝光掩膜(49)包括相位移掩膜。
4.一种装置，包括：
曝光掩膜(49)；
照射该曝光掩膜(49)的辐射源(44)；
位于该曝光掩膜下面以使穿透过曝光掩膜(49)的辐射聚焦的一个或多个固态浸没透镜(56)；以及
用于支撑该一个或多个固态浸没透镜(56)的组件(50)。
5.如权利要求4所述的装置，其中，该曝光掩膜(49)包括相位移掩膜。
6.如权利要求1或4所述的装置，其中，该一个或多个固态浸没透镜(56)包括阵列。
7.如权利要求1或4所述的装置，包括位于该一个或多个固态浸没透镜(56)上的抗反射涂层(66)。
8.一种装置，包括：
电磁辐射源(44)；以及
使电磁辐射的选择部份穿过的掩膜(72)，该掩膜(72)包括可以穿透电磁辐射的板(78)，该板(78)包含一个或多个固态浸没透镜(74，75，76)以及位于该板(78)上的不透光薄膜(80)，该不透光薄膜(80)可以允许电磁辐穿透过该一个或多个固态浸没透镜(74，75，76)，但防止电磁辐射穿透过至少一部分板(80)。
9.如权利要求8所述的装置，其中，该一个或多个固态浸没透镜(74)包括细长结构。
10.如权利要求8所述的装置，其中，该一个或多个固态浸没透镜(76)包括球状结构。
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