[发明专利]超声波清洗装置

权利要求书

1.一种超声波清洗装置，其利用施加了超声波的清洗液对被清洗物的表面附着的污渍进行超声波清洗，其特征在于，

包括：

清洗槽，其贮存所述清洗液；

支承台，其在所述清洗液中支承所述被清洗物；

超声波产生机构，其使频率为1～10MHz的第一超声波、和频率在该第一超声波的二分之一以下的第二超声波朝向所述被清洗物交替会聚；

会聚位置调节机构，其调节从所述会聚的会聚位置到所述被清洗物的表面的距离；以及

移动机构，其使所述超声波产生机构以及所述支承台的至少一个移动，使得由所述超声波产生机构所产生的超声波的效力充分遍及所述被清洗物的表面，

所述超声波的会聚位置适度离开所述被清洗物的表面，在所述会聚位置设有固体物，

所述固体物呈板状，其厚度比使用的超声波的波长薄。

2.一种超声波清洗装置，其利用施加了超声波的清洗液对被清洗物的表面附着的污渍进行超声波清洗，其特征在于，

包括：

搬送机构，其搬送所述被清洗物；

超声波喷嘴，其设置在所述搬送机构的上方，从喷嘴口朝向所述被清洗物的表面喷出清洗液，并且具备超声波产生机构，该超声波产生机构使频率为1～10MHz的第一超声波、和频率在该第一超声波的二分之一以下的第二超声波朝向所述被清洗物的表面交替会聚；以及

会聚位置调节机构，其调节从所述喷嘴口到所述被清洗物的表面的距离，

所述超声波的会聚位置适度离开所述被清洗物的表面，在所述会聚位置设有固体物， 

所述固体物呈板状，其厚度比使用的超声波的波长薄。

3.根据权利要求1或2所述的超声波清洗装置，其特征在于，

所述被清洗物是半导体基板、LCD用或光掩模用的玻璃基板的任一个。

4.根据权利要求1所述的超声波清洗装置，其特征在于，

所述固体物是金属板或金属以外材质的平板。

5.根据权利要求1所述的超声波清洗装置，其特征在于，

所述固体物是网状板或多孔板。

6.根据权利要求1、4或5所述的超声波清洗装置，其特征在于，

所述超声波的前进方向相对于与所述被清洗物的表面垂直的方向倾斜。

7.根据权利要求2所述的超声波清洗装置，其特征在于，

清洗液从所述喷嘴口喷出的喷出方向以及所述超声波的前进方向相对于与所述被清洗物的表面垂直的方向倾斜。

8.根据权利要求1、2、4、5或7所述的超声波清洗装置，其特征在于，

设有两个所述超声波产生机构，并且该两个超声波产生机构被配置为超声波的会聚位置相同。

9.根据权利要求8所述的超声波清洗装置，其特征在于，

所述两个超声波产生机构以转动轴为中心转动自如地被支承，并且所述会聚位置调节机构通过使所述两个超声波产生机构转动，在使所述会聚位置相同的同时调节从所述会聚位置到所述被清洗物的表面的距离。

10.根据权利要求1、2、4、5、7或9所述的超声波清洗装置，其特征在于，

设有气体溶解水吹入机构，其向所述清洗液中吹入溶解了气体的气体溶解水。

11.根据权利要求1、2、4、5、7或9所述的超声波清洗装置，其特征在于，

设有向所述清洗液中吹入气体的气体吹入机构。