[发明专利]漫反射结构及其制造方法以及使用该结构之显示装置无效
申请号: | 200580035254.6 | 申请日: | 2005-12-06 |
公开(公告)号: | CN101103302A | 公开(公告)日: | 2008-01-09 |
发明(设计)人: | 坪田雄介 | 申请(专利权)人: | 统宝香港控股有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335;G02F1/1362 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 张雪梅;梁永 |
地址: | 香港*** | 国省代码: | 中国香港;81 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 漫反射 结构 及其 制造 方法 以及 使用 显示装置 | ||
【发明所属之技术领域】
本发明通常系关于一漫反射结构。本发明亦系关于一漫反射结构及一使用该结构之显示装置之制造方法。本发明尤其系关于一反射结构,其制造方法及使用该结构之显示装置,其可使漫反射之光具有方向性。
【先前技术】
专利文献1揭示一种用于一电光装置之基板,其经设计以防止反射光在不需要的方向上散射且在需要的方向上增加光强度以便在一视角方向上改良显示亮度。更具体言之,在反射型及透射型电光装置中,一第一树脂层具有一使反射光具有方向性所必需之倾斜结构,一第二树脂层系安置于该倾斜结构上且一反射面板系安置于该第二树脂层上。该倾斜结构系使用光微影方法形成,其中使用一半色调光罩作为一光罩,或者使用椭圆、圆形或水滴形状用于光罩图案。根据此基板,在该视角方向上之显示亮度之改良系使用该光罩藉由最优化倾斜结构来实现的。
然而,在此专利文献中描述之技术系基于一分别形成第一树脂层及第二树脂层之复杂的制造方法,该第一树脂层系用于界定依赖倾斜结构之反射方向性,该第二树脂层执行一主要光散射功能。另外,在第一树脂层之倾斜结构上形成相对精细的不平坦体作为第二树脂层导致稳定性不足以确保所要之漫射性的状况。
另一方面,存在一报导:已使用一垂直对齐(VA)液晶(非专利文献1)发展了一具有高反射率(42%)及高对比率(80∶1)之反射型彩色TFT-LCD。此非专利文献亦报导:采用一MVA(多畴垂直对齐)液晶用作VA液晶且已使用经由一新发展的无光罩方法获得之具皱摺漫反射电极成功地建构了一低成本、高显示效能反射型彩色TFT-LCD。
如下形成此皱摺折痕漫反射电极。在一TFT基板上形成一感光树脂层,使用一用于形成接触孔之光罩使其暴露至光下且显影其以形成接触孔。其次,在不使用任一光罩的情况下用UV光照射剩余的树脂。在此情况中,藉由调节UV强度及光谱特徵来使收缩百分比之分布在感光树脂之一单一层中以便下层部分中之收缩百分比大于上层部分中之收缩百分比。接著,为使具有在厚度方向上的该收缩百分比分布之树脂收缩,使用烘焙处理在该表面上形成皱纹状粗糙且最后在此皱纹状粗糙表面上形成具有高光学反射率之金属层(诸如Al)以产生具有类似皱纹状粗糙表面之漫反射电极。
此非专利文献亦涉及基于皱纹状粗糙之方向之反射特徵的控制。此特定说明藉由控制皱纹状粗糙之方向可能使入射光仅在一特定方位上反射。更具体言之,藉由改变感光树脂层与基板间之介面条件来获得具有方向性之反射特徵以控制皱纹状粗糙之方向,在该方向性中较高反射率出现在垂直及水平方向上。
然而,皱纹状粗糙之形状主要不仅取决于感光树脂之厚度及UV辐射能而亦取决于各种其它制造参数且吾人可容易地想象到不能容易可靠地制成所要之形状。然而,即使得到最优参数并根据此等参数执行制造,仍然通常存在以下状况:在实际制造流程中发生吾人不期望之参数波动,使得不可能稳定地形成所要之形状且尤其更易于使产物产生改变。
[专利文献1]日本专利特许公开申请案第2004-37946号(特别参看申请专利范围,第[0023]至[0034]段及图1及图2)。
[非专利文献1]Norio Sugiura及三位作者之″Reflective Type ColorTFT-LCD using MVA Technique″,liquid crystal第6卷,第4号,2002年,Japanese Liquid Crystal Society,2002年10月25日出版,第383-389页。
【发明内容】
已鉴于上述情况实施了本发明,且其目标为提供一种可获得一简易且稳定地展示一所要的反射方向性之漫反射结构之制造方法。本发明之另一目标为提供一漫反射结构及使用该结构之显示装置,其可以一简单的制造方法稳定地产生。
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