[发明专利]等离子体溅射成膜方法和成膜装置无效
申请号: | 200580035907.0 | 申请日: | 2005-10-18 |
公开(公告)号: | CN101044259A | 公开(公告)日: | 2007-09-26 |
发明(设计)人: | 铃木健二;池田太郎;波多野达夫;水泽宁 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34;H01L21/3205;C23C14/14;H01L23/52;H01L21/285 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人: | 龙淳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 等离子体 溅射 方法 装置 | ||
【说明书】:
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