[发明专利]发光的金（Ⅲ）化合物、其制备和含有它们的发光装置有效
| 申请号： | 200580036932.0 | 申请日： | 2005-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN101098946A | 公开（公告）日： | 2008-01-02 |
| 发明（设计）人： | 任咏华;黄文忠;郭海成;朱秀玲 | 申请（专利权）人： | 港大科桥有限公司;香港科技大学 |
| 主分类号： | C09K11/06 | 分类号： | C09K11/06;H05B33/14 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 张轶东;林森 |
| 地址： | 中国香港*** | 国省代码： | 中国香港;81 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 发光 化合物 制备 含有 它们 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种具有下面通式(I)所示的化学结构的发光化合物，
其中
R1为链炔基，
R2-R4各自独立地表示选自以下的基团：氢、卤素、链炔基、烷 基、芳基、烷氧基、氨基、氰基、硝基、烷基羰基、烷氧基羰基、芳 基羰基、芳氧基羰基、一-或二烷基氨基羰基、烷基羰基氧基、芳基 羰基氧基、芳氧基、烷氧基羰基以及芳氧基羰基氧基；
X、Y和Z各自独立地表示杂原子或碳；
表示芳族5-或6-员环；
α和β各自独立地表示芳族5-或6-员环的桥或表示非环部分的 断片；
C-X、C-Y和C-Z各自独立地表示单键或双键；
n表示0或整数；
p、q和r表示正整数。
2.一种发光装置，其中将权利要求1的化合物用作发光层。
3.权利要求2的发光装置，其中所述的化合物被沉积为薄膜。
4.权利要求3的发光装置，其中通过升华、真空沉积和自旋涂层 来沉积所述的薄层。
5.权利要求2的发光装置，其中权利要求1的化合物被用作发光 层中的掺杂剂。
6.权利要求5的发光装置，其中所述化合物的发光带最大值随着 掺杂剂的浓度而改变。
7.一种制备具有与金(III)金属中心配位的三齿配体和至少一个 链炔基的发光化合物的方法，包括下列反应：
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