[发明专利]具有扩散阻挡层的玻璃陶瓷制品和生产具有扩散阻挡层的玻璃陶瓷的方法

权利要求书

1.生产装饰的或玻璃陶瓷基板的方法，其中生产或提供玻璃基板，在基板上沉积含有氧化硅的层，在含有氧化硅的层上施用装饰性油墨，烧上装饰性油墨并且对玻璃基板进行陶瓷化，其中通过用火焰吹扫基板表面的至少一个区域并水解添加到火焰中的硅化合物，来火焰热解沉积含有氧化硅的层。

2.生产装饰的或玻璃陶瓷基板的方法，其中生产或提供玻璃基板，在基板上施用装饰性油墨，在提供有装饰的表面上沉积含有氧化硅的层，烧上装饰性油墨并且对玻璃基板进行陶瓷化，其中通过用火焰吹扫基板表面的至少一个区域并水解添加到火焰中的硅化合物，来火焰热解沉积含有氧化硅的层。

3.如权利要求1或2的方法，其中通过陶瓷化基板烧上装饰。

4.如在前权利要求的任一项所述的方法，其中通过印刷、静电、电子照相施用、施用可转印图像、喷涂或喷雾来施用装饰性油墨。

5.如在前权利要求的任一项所述的方法，其中将六甲基二硅氧烷(HMDSO)、六甲基二硅氮烷(HMDSN)、四乙氧基甲硅烷中的至少一种物质用作硅化合物。

6.如在前权利要求的任一项所述的方法，其中使用具有氢、甲烷、丙烷、丁烷中的至少一种组分的可燃气体产生火焰。

7.如在前权利要求的任一项所述的方法，其中产生具有氧化部分和还原部分的火焰，且仅使用氧化部分吹扫基板以沉积含有氧化硅的层。

8.如在前权利要求的任一项所述的方法，其中用含有氧化硅的层在两面火焰热解涂覆平面基板。

9.如在前权利要求的任一项所述的方法，其中基板另外涂覆有红外反射层。

10如权利要求9所述的方法，其中基板涂覆有氧化锡层，也可涂覆氟掺杂氧化锡层。

11.如在前权利要求的任一项所述的方法，其中沉积具有2-100纳米、优选4-40纳米、特别优选不超过2 0纳米层厚的含有氧化硅的层。

12.如在前权利要求的任一项所述的方法，其中含有氧化硅的层的子区域涂覆有疏水涂层。

13.如权利要求12所述的方法，其中含有氧化硅的层的子区域涂覆有含有氟代烷基硅烷的溶胶一凝胶层。

14.如在前权利要求的任一项所述的方法，其中玻璃基板的生产包括通过浮法生产连续玻璃带。

15.如在前权利要求的任一项所述的方法，其中玻璃基板的生产包括通过压延生产连续玻璃带。

16.如权利要求14和15中任一项所述的方法，其中含有氧化硅的层的沉积包括在压延或浮法后在玻璃带上的沉积。

17.如在前权利要求的任一项所述的方法，其中玻璃基板的生产包括从连续生产的玻璃带上分割一部分。

18.如权利要求17所述的方法，其中含有氧化硅的层的沉积包括在通过分割生产的单片化的基板上的含有氧化硅的层的沉积。

19.生产玻璃陶瓷制品，特别是玻璃陶瓷炉盘板、玻璃陶瓷视窗面或玻璃陶瓷反射器的方法，且特别是如权利要求1-18的任一项中所述的，其中通过在制品基板或坯体玻璃基板的至少一面上吹扫火焰并火焰热解水解添加到火焰中的硅化合物，在制品基板或坯体玻璃基板的至少一面上沉积含有氧化硅的阻挡层。

20.如在前权利要求的任一项所述的方法，其中通过火焰热解沉积生成含有氧化硅的层的粒状表面结构，该粒状表面结构具有分布于致密层表面上的最大为80纳米优选最大为60纳米的氧化硅晶粒。

21.玻璃陶瓷基板，特别是按在前权利要求的任一项所述那样可生产的玻璃陶瓷基板，其通过烧上装饰性油墨提供有装饰，其中装饰施用在基板上的含有氧化硅的火焰热解层上。

22.玻璃陶瓷基板，特别是用在前权利要求的任一项所述的方法可生产的玻璃陶瓷基板，其通过烧上装饰性油墨提供有装饰，其中装饰被具有含有氧化硅的火焰热解层的基板表面区域包围。

23.如在前权利要求的任一项所述的玻璃陶瓷基板，其中含有氧化硅的层具有2-100纳米、优选4-40纳米、特别优选不超过20纳米的层厚。