[发明专利]放射线图像转换板及其制造方法

权利要求书

1.一种放射线图像转换板，其在支持体上具有荧光放射增强性荧光体层，其中，在支持体和荧光放射增强性荧光体层之间设置NCO基团/甲基的化学结合强度比为0.2～2.0的交联的衬底树脂层。

2.按照权利要求1所述的放射线图像转换板，其中，交联剂为分子内具有2个以上NCO基团的化合物。

3.按照权利要求1所述的放射线图像转换板，其中，衬底树脂的数均分子量Mn低于8万。

4.按照权利要求1所述的放射线图像转换板，其中，上述荧光放射增强性荧光体层含有下述通式(1)表示的荧光放射增强性荧光体，

通式(1)M₁X·aM₂X′·bM₃X″:eA(式中，M₁为选自Li、Na、K、Rb和Cs各原子中至少一种的碱金属原子，M₂为选自Be、Mg、Ca、Sr、Ba、Zn、Cd、Cu以及Ni各原子中至少一种的二价金属原子，M₃为选自Sc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Al、Ga和In各原子中至少一种三价金属原子，X、X′、X″为选自F、Cl、Br以及I各原子中至少一种卤原子，A为选自Eu、Tb、In、Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、Nd、Yb、Er、Gd、Lu、Sm、Y、Tl、Na、Ag、Cu以及Mg各原子中至少一种金属原子，另外，a、b、e分别表示0≤a＜0.5、0≤b＜0.5、0＜e≤0.2的范围的数值)。

5.一种放射线图像转换板的制造方法，其中，权利要求1所述的放射线图像转换板的荧光放射增强性荧光体层通过气相成长法(也叫气相沉淀法)形成为具有50μm～1mm的膜厚。

6.一种放射线图像转换板的制造方法，其中，权利要求2所述的放射线图像转换板的荧光放射增强性荧光体层通过气相成长法(也叫气相沉淀法)形成为具有50μm～1mm的膜厚。

7.一种放射线图像转换板的制造方法，其中，权利要求3所述的放射线图像转换板的荧光放射增强性荧光体层通过气相成长法(也叫气相沉淀法)形成为具有50μm～1mm的膜厚。

8.一种放射线图像转换板的制造方法，其中，权利要求4所述的放射线图像转换板的荧光放射增强性荧光体层通过气相成长法(也叫气相沉淀法)形成为具有50μm～1mm的膜厚。