[发明专利]光学体和制造光学体的方法有效
申请号: | 200580037542.5 | 申请日: | 2005-09-16 |
公开(公告)号: | CN101052902A | 公开(公告)日: | 2007-10-10 |
发明(设计)人: | 蒂莫西·J·埃布林克;琼·M·斯特罗贝尔;巴里·S·罗塞尔;约翰·P·珀塞尔;凯文·M·哈默;克里斯托弗·J·德克斯;罗伯特·D·泰勒;威廉·B·布莱克;格雷戈里·L·布吕姆 | 申请(专利权)人: | 3M创新有限公司 |
主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30;B32B7/06;B29C55/02;C09D5/20 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 | 代理人: | 丁业平;张天舒 |
地址: | 美国明*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 制造 方法 | ||
1.一种光学体,该光学体包括:
光学膜,该光学膜包括多层光学膜和连续相/分散相光学膜中的至少一者;以及
至少一个可剥离的粗糙表层,其可操作地连接于所述光学膜的相邻的表面,所述至少一个可剥离的粗糙表层包含:
第一聚合物,该第一聚合物选自由间规聚丙烯、聚丙烯共聚物和线性低密度聚乙烯所组成的组;
与所述第一聚合物不同的第二聚合物,其中所述第二聚合物选自由苯乙烯-丙烯腈共聚物、中密度聚乙烯、改性聚乙烯、由聚碳酸酯和共聚聚酯形成的共混物、ε-己内酯聚合物、丙烯无规共聚物、聚乙烯-辛烯共聚物、抗静电聚合物、高密度聚乙烯、线性低密度聚乙烯和聚甲基丙烯酸甲酯所组成的组;以及
与所述第一聚合物和所述第二聚合物中的至少一者基本不混溶的附加材料,其中所述附加材料包含第三聚合物,该第三聚合物选自由苯乙烯-丙烯腈共聚物、中密度聚乙烯、改性聚乙烯、由聚碳酸酯和共聚聚酯形成的共混物、ε-己内酯聚合物、丙烯无规共聚物、聚乙烯-辛烯共聚物、抗静电聚合物、高密度聚乙烯、线性低密度聚乙烯和聚甲基丙烯酸甲酯所组成的组,
其中,所述第一聚合物形成连续相,并且所述第二聚合物形成分散于所述连续相中的分散相。
2.权利要求1所述的光学体,其中,所述至少一个可剥离的粗糙表层对所述光学膜的所述相邻的表面具有粘附作用,该粘附作用以2g/英寸至120g/英寸的剥离力来表征。
3.权利要求1所述的光学体,其中,所述至少一个可剥离的粗糙表层对所述光学膜的所述相邻的表面具有粘附作用,该粘附作用以4g/英寸至50g/英寸的剥离力来表征。
4.权利要求1所述的光学体,其中,所述至少一个可剥离的粗糙表层对所述光学膜的所述相邻的表面具有粘附作用,该粘附作用以5g/英寸至35g/英寸的剥离力来表征。
5.权利要求1所述的光学体,其中,所述第一聚合物的结晶度低于所述第二聚合物的结晶度。
6.权利要求1所述的光学体,其中,与所述第一聚合物和所述第二聚合物中的至少一者基本不混溶的所述材料包含无机材料。
7.权利要求1所述的光学体,其中,所述光学膜包括至少一个亚表层。
8.权利要求7所述的光学体,其中,所述亚表层包含苯乙烯-丙烯腈共聚物、聚碳酸酯、PET或脂环族聚酯/聚碳酸酯。
9.权利要求7所述的光学体,其中,所述亚表层包含第一材料和与所述第一材料基本不混溶的第二材料,该第二材料是聚合的或无机的。
10.权利要求1所述的光学体,其中,所述光学体包括至少两个可剥离的粗糙表层,该表层可操作地连接于所述光学膜的两个相背面的每一面。
11.权利要求1所述的光学体,其中,所述可剥离的粗糙表层还包含着色剂。
12.权利要求1所述的光学体,该光学体基本上是透明的。
13.权利要求1所述的光学体,其中,所述光学体包含双折射材料。
14.权利要求1所述的光学体,其还包括设置于所述的至少一个可剥离的粗糙表层之上的至少一个光滑的外表层。
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