[发明专利]静电吸盘装置有效
| 申请号： | 200580037607.6 | 申请日： | 2005-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN101278385A | 公开（公告）日： | 2008-10-01 |
| 发明（设计）人： | 藤井佳词 | 申请（专利权）人： | 株式会社爱发科 |
| 主分类号： | H01L21/683 | 分类号： | H01L21/683 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 许海兰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 静电 吸盘 装置 | ||
1. 一种静电吸盘装置，该静电吸盘装置在支撑台的表面静电吸附被处理基板，其特征在于具备，
包括面对上述支撑台表面的除电用电极、除电用电位、连接在这些除电用电极与除电用电位之间的除电用电阻的除电电路。
2. 根据权利要求1所述的静电吸盘装置，其特征在于，
上述除电用电极形成在上述支撑台的表面周缘上。
3. 根据权利要求1所述的静电吸盘装置，其特征在于，
在配置于上述支撑台内部的吸盘用电极之间形成上述除电用电极。
4. 根据权利要求1所述的静电吸盘装置，其特征在于，
上述除电用电位是接地电位。
5. 根据权利要求1所述的静电吸盘装置，其特征在于，
上述除电用电位是预定的电源电位。
6. 根据权利要求1所述的静电吸盘装置，其特征在于，
上述除电用电阻是可变电阻。
7. 根据权利要求1所述的静电吸盘装置，其特征在于，
上述除电电路包括把上述除电用电极与上述除电用电位之间电连接/断开的开关单元。
8. 根据权利要求1所述的静电吸盘装置，其特征在于，
上述除电用电极设置在始终接触放置在上述支撑台表面的被处理基板的背面的位置。
9. 根据权利要求1所述的静电吸盘装置，其特征在于，
在上述除电用电极上设置有把该除电用电极向上述支撑台的表面上方赋能的赋能构件。
10. 根据权利要求1所述的静电吸盘装置，其特征在于，
在上述支撑台的表面配置多个上述除电用电极。
11. 根据权利要求1所述的静电吸盘装置，其特征在于，
上述除电用电极连接到使该除电用电极相对上述支撑台的表面沿着垂直方向升降的升降单元上。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
