[发明专利]腐蚀抑制剂、抑制腐蚀的传热流体和其用途有效

专利信息
申请号: 200580038229.3 申请日: 2005-09-08
公开(公告)号: CN101056958A 公开(公告)日: 2007-10-17
发明(设计)人: P·M·沃伊切斯耶斯;A·V·格尔申;F·J·马林霍;T·G·卡拉赫尔;B·杨 申请(专利权)人: 霍尼韦尔国际公司
主分类号: C09K5/10 分类号: C09K5/10;C09K5/20;C23F11/14;H01M8/04
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 周铁;范赤
地址: 美国新*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 腐蚀 抑制剂 抑制 传热 流体 用途
【权利要求书】:

1.一种用于传热系统的抑制腐蚀的传热流体,其包含

腐蚀抑制剂,该腐蚀抑制剂包含

唑化合物,和

基于硅氧烷的表面活性剂、胶态二氧化硅或其混合物中的至 少一种,

该抑制腐蚀的传热流体的电导率不大于200μS/cm或等于 200μS/cm,并且所述基于硅氧烷的表面活性剂是通式 R3-Si-[O-Si(R)2]x-OSiR3的聚硅氧烷,其中R是具有1-200个碳的烷基 或聚环氧烷共聚物,x是0-100,并且所述聚硅氧烷具有至少一个R基 团,其中该R基团是一种或多种具有2-6个碳的氧化烯的聚环氧烷共 聚物。

2.权利要求1的抑制腐蚀的传热流体,其电导率小于10μS/cm。

3.权利要求1的抑制腐蚀的传热流体,其中唑化合物的含量为 1ppm-5000ppm,基于抑制腐蚀的传热流体的总重量。

4.权利要求1的抑制腐蚀的传热流体,其中基于硅氧烷的表面活 性剂的含量为0.01wt%-10wt%,基于抑制腐蚀的传热流体的总重量。

5.权利要求1的抑制腐蚀的传热流体,其中胶态二氧化硅的含量 为不大于10,000ppm,基于抑制腐蚀的传热流体的总重量。

6.权利要求1的抑制腐蚀的传热流体,其中唑化合物为通式(I)、 (II)、(III)或(IV)的化合物:

其中R是H或卤素,或C1-C20烷基;R′是H、C1-C20烷基、SH或SR 基团中的至少一个;X是N、C-SH或CH;Y选自N、C-R或CH基 团,R定义如上。

7.权利要求6的抑制腐蚀的传热流体,其中唑化合物是通式(I) 的化合物,其中X是N。

8.权利要求7的抑制腐蚀的传热流体,其中唑化合物是通式(I) 的化合物,其中X是N,R是H或具有1至小于10个碳的烷基。

9.权利要求6的抑制腐蚀的传热流体,其中唑化合物是苯并三 唑、甲苯并三唑、4-甲基苯并三唑、5-甲基苯并三唑、丁基苯并三唑、 巯基苯并噻唑、苯并咪唑、甲基苯并咪唑、氯甲基苯并三唑、溴甲基 苯并三唑或其组合中的至少一种。

10.权利要求1的抑制腐蚀的传热流体,其中胶态二氧化硅的平均 粒度为1nm-200nm。

11.权利要求1的抑制腐蚀的传热流体,其还包含醇,所述醇是甲 醇、乙醇、丙醇、丁醇、糠醛、乙二醇、二甘醇、三甘醇、1,2-丙二醇、 1,3-丙二醇、二丙二醇、丁二醇、丙三醇、丙三醇的单乙基醚、丙三醇 的二甲基醚、1,2,6-己三醇、三羟甲基丙烷、甲氧基乙醇或其组合中的 至少一种。

12.权利要求11的抑制腐蚀的传热流体,其还包含水。

13.一种传热系统,其包括循环回路,该循环回路限定了抑制腐蚀 的液体传热流体的流动路径,所述抑制腐蚀的液体传热流体的电导率 小于10μS/cm,并且包含

腐蚀抑制剂,该腐蚀抑制剂包含

唑化合物,和

基于硅氧烷的表面活性剂、胶态二氧化硅或其混合物中的至 少一种,其中所述基于硅氧烷的表面活性剂是通式 R3-Si-[O-Si(R)2]x-OSiR3的聚硅氧烷,其中R是具有1-200个碳的烷基 或聚环氧烷共聚物,x是0-100,并且所述聚硅氧烷具有至少一个R基 团,其中该R基团是一种或多种具有2-6个碳的氧化烯的聚环氧烷共 聚物。

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