[发明专利]用于在光致抗蚀剂图案上涂覆的组合物无效

申请号：	200580038784.6	申请日：	2005-10-25
公开（公告）号：	CN101057185A	公开（公告）日：	2007-10-17
发明（设计）人：	工藤隆范;M·帕德曼纳班;R·R·达莫尔	申请（专利权）人：	AZ电子材料美国公司
主分类号：	G03F7/40	分类号：	G03F7/40
代理公司：	中国国际贸易促进委员会专利商标事务所	代理人：	王健
地址：	美国***	国省代码：	美国;US
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摘要：
搜索关键词：	用于光致抗蚀剂图案上涂覆组合
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【权利要求书】：

1.用于涂覆光致抗蚀剂图案的水性涂料组合物，其包含含氨基的聚合物。

2.权利要求1的组合物，其中所述氨基是伯胺。

3.权利要求1或2的组合物，其中所述氨基是烷基胺。

4.权利要求1-3中任一项的组合物，其中所述聚合物是聚烯丙胺。

5.权利要求1-3中任一项的组合物，其中所述聚合物选自聚(烯丙胺-共-甲基丙烯酸)、聚(烯丙胺-共-丙烯酸)、聚(烯丙胺-共-丙烯酰胺)、聚(烯丙胺-共-N-烷基丙烯酰胺)、聚(烯丙胺-共-丙烯酸-共-甲基丙烯酸)、聚(烯丙胺-共-丙烯酸-共-丙烯酰胺)、双(3-氨基丙基)封端的聚(氧乙烯)、胺封端的聚(氧化乙烯)和聚(丙二醇)双(2-氨基丙基醚)。

6.权利要求1-5中任一项的组合物，其中所述组合物进一步包含水可混溶性溶剂。

7.权利要求1-6中任一项的组合物，其中所述组合物不含交联用化合物。

8.微电子元件的制造方法，包括：

a)提供具有光致抗蚀剂图案的衬底；

b)用权利要求1-7中任一项的涂料组合物涂覆所述光致抗蚀剂图案；

c)让与所述光致抗蚀剂图案接触的涂料的一部分反应；

d)将没有与移除溶液起反应的涂料的一部分除去。

9.根据权利要求8的方法，其中将所述衬底加热以引起所述涂料与光致抗蚀剂图像起反应。

10.根据权利要求8或9的方法，其中所述移除溶液是包含氢氧化物碱的水溶液。

11.根据权利要求8-10中任一项的方法，其中所述移除溶液还包含水可混溶性溶剂。

12.根据权利要求8-11中任一项的方法，其中所述光致抗蚀剂包含此种聚合物，该聚合物包含选自内酯、酸酐和酯的基团。

13.根据权利要求1-7中任一项的涂料组合物的用于涂覆光致抗蚀剂图案的用途。