[发明专利]具有低聚或聚合敏化剂的平版印版前体

权利要求书

1.平版印版前体，其包括

(a)具有亲水性表面的平版底物，和

(b)在亲水性表面上的辐射-感光涂层，其包含

(i)一种或多种单体和/或低聚物和/或聚合物，每个都包含至少一个易进行自由基聚合的烯键式不饱和基团，

(ii)至少一种敏化剂，和

(iii)至少一种共引发剂，其能够与敏化剂(ii)一起形成自由基；

其特征为，至少一种敏化剂是包括以下结构单元的低聚或者聚合化合物，且分子量为500-30000，

其中选自被取代的或未被取代的苯、萘、蒽、芴、联苯、咔唑、呋喃、二苯并呋喃、噻吩、二苯并噻吩、二噻吩并噻吩、二唑、噻二唑、吡啶、嘧啶和三嗪单元以及两个或更多个可以相同或不同的上述单元的任何组合，使得共轭π-体系存在于结构(I)中的两个基团Z之间，

每个Z独立地表示杂原子，

每个R¹和R²独立地选自卤素原子、烷基、芳基、烷基芳基或芳烷基、基团-NR³R⁴和基团-OR⁵，

每个R³、R⁴和R⁵独立地选自烷基、芳基、烷基芳基和芳烷基，

a和b独立地表示0或1-4的整数，

n的值大于1，和

AS选自基团

其中x和y独立地表示至少为1的整数，z表示0或至少为1的整数，基团

其中s是至少为1的整数，

硅氧烷单元和

硅烷单元。

2.权利要求1的平版印版前体，其中每个Z独立地选自N、S、O和Si。

3.权利要求1或2的平版印版前体，其中通式(I)中的Z是O通式(I)中的衍生自被取代的或未被取代的苯或联苯，或者代表

通式(I)中，R¹＝R²和a＝b，以及

通式(I)中的脂族间隔基团AS选自

CO-(CH₂)₄-CO-，-(CH₂)₈-和

4.权利要求1或2的平版印版前体，其中共引发剂(iii)选自以下类的化合物：茂金属；具有1-3个CX₃基团的1，3，5-三嗪衍生物，其中X代表氯或溴；过氧化物；六芳基联咪唑；肟醚；肟酯；N-芳基甘氨酸和其衍生物；硫醇化合物；具有至少2个羧基的N-芳基，S-芳基和O-芳基多元羧酸，其中至少一个羧基键合至芳基单元的N、O或S原子；盐；烷基三芳基硼酸酯；苯偶姻醚；苯偶姻酯；三卤代甲基芳基砜；胺；N，N-二烷基氨基苯甲酸酯；芳族磺酰卤；二酰亚胺；重氮磺酸酯；9，10-二氢蒽衍生物；酰基膦氧化物；二酰基膦氧化物；α-羟基和α-氨基苯乙酮。

5.图像化权利要求1或2的平版印版前体的方法，其包括

(a)提供如权利要求1或2所限定的平版印版前体；

(b)使前体以图像方式曝光于大于300nm的UV辐射；

(c)通过碱性显影水溶液除去涂层的未曝光区域。

6.权利要求5的方法，其中在步骤(c)前加热在步骤(b)中获得的曝光的前体。

7.权利要求5的方法，其中使在步骤(c)中获得的显影的前体随后进行至少一种选自受热和全部曝光的处理。

8.制备权利要求1或2的辐射感光平版印版前体的方法，其包括

(a)提供具有亲水性表面的平版底物，

(b)提供辐射-感光涂层，其包括

(i)一种或多种单体和/或低聚物和/或聚合物，每个都包含至少一个易进行自由基聚合的烯键式不饱和基团，

(ii)至少一种敏化剂，

(iii)至少一种共引发剂，其能够与敏化剂(ii)一起形成自由基，和

(iv)至少一种溶剂，

其特征为，所述至少一种敏化剂是包括以下结构单元(I)的低聚或者聚合化合物，且分子量为500-30000：

其中选自被取代的或未被取代的苯、萘、蒽、芴、联苯、咔唑、呋喃、二苯并呋喃、噻吩、二苯并噻吩、二噻吩并噻吩、二唑、噻二唑、吡啶、嘧啶和三嗪单元以及两个或更多个可以相同或不同的上述单元的任何组合，使得共轭π-体系存在于结构(I)中的两个基团Z之间，

每个Z独立地表示杂原子，

每个R¹和R²独立地选自卤素原子、烷基、芳基、烷基芳基或芳烷基、基团-NR³R⁴和基团-OR⁵，

每个R³、R⁴和R⁵独立地选自烷基、芳基、烷基芳基和芳烷基，

a和b独立地表示0或1-4的整数，

n的值大于1，和

AS选自基团

其中x和y独立地表示至少为1的整数，z表示0或至少为1的整数，基团

其中s是至少为1的整数，

硅氧烷单元和

硅烷单元，

(c)将辐射感光组合物施加到平版底物的亲水性表面上，和

(d)干燥。