[发明专利]用于控制包含聚合物组合物的制品中雾度的方法无效

专利信息
申请号: 200580039493.9 申请日: 2005-09-20
公开(公告)号: CN101061181A 公开(公告)日: 2007-10-24
发明(设计)人: 威廉·D·理查兹;法里德·F·库利;托马斯·L·古根海姆 申请(专利权)人: 通用电气公司
主分类号: C08L79/00 分类号: C08L79/00;C08L79/08;C08G73/10
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 吴培善
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 用于 控制 包含 聚合物 组合 制品 中雾度 方法
【权利要求书】:

1、一种用于控制包含聚合物组合物的制品中雾度的方法,所述方法包括:

(a)提供含有小于25ppm碱金属卤化物的聚合物组合物;和

(b)由所述聚合物组合物制造制品。

2、根据权利要求1的方法,其中所述聚合物组合物包含选自聚醚酰亚胺、聚醚砜、和聚醚酮中的至少一种。

3、根据权利要求1的方法,其中所述聚合物组合物包含聚醚酰亚胺。

4、根据权利要求3的方法,其中所述聚醚酰亚胺包含具有结构式I的重复单元:

其中R1和R2各自独立地为卤素原子、硝基、氰基、C1~C12脂肪族基团、C3~C12环脂肪族基团、或C3~C12芳族基团;b和c独立地为整数0~3;Q为C2~C22脂肪族基团、C3~C22环脂肪族基团、或C3~C22芳族基团;X为键、氧原子、硫原子、亚磺酰基、磺酰基、硒原子、六氟异亚丙基、羰基或具有结构式II的连接基

其中每个G1独立地为C3~C20芳族基团;E选自C3~C20环脂肪族基团、C3~C20芳族基团、C1~C20脂肪族基团、含硫的连接基、含磷的连接基、醚连接基、羰基、叔氮原子、和含硅的连接基;R3各自独立地为卤素原子、C1~C20脂肪族基团、C3~C20环脂肪族基团、或C3~C20芳族基团;Y1各自独立地为卤素原子、硝基、氰基、C1~C20脂肪族基团、C3~C20环脂肪族基团、或C3~C20芳族基团;每个m独立地为0至每个相应的G1上可用于取代的位置数目的数;p为0至E上可用于取代的位置数目的整数;t为大于或等于1的数;s为0或1;且u为包括0的整数,其中t、s和u中的至少一个不等于0。

5、根据权利要求4的方法,其中所述结构单元Q衍生自选自C2~C22脂肪族二胺、C3~C22环脂肪族二胺、和C3~C22芳族二胺的二胺。

6、根据权利要求4的方法,其中所述结构I包括衍生自间-苯二胺、和对-苯二胺的结构单元。

7、根据权利要求6的方法,其中所述间-苯二胺、和所述对-苯二胺的存在量分别对应于约1~99mol%和99~1mol%。

8、根据权利要求1的方法,其中通过使前体聚合物纯化来提供所述包含25ppm或更少碱金属卤化物的聚合物,所述前体聚合物包含大于约50ppm碱金属卤化物。

9、根据权利要求8的方法,其中所述包含大于约50ppm碱金属卤化物的前体聚合物通过产生碱金属卤化物作为副产物的方法来制备。

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