[发明专利]滤光片无效
申请号: | 200580039998.5 | 申请日: | 2005-11-22 |
公开(公告)号: | CN101061399A | 公开(公告)日: | 2007-10-24 |
发明(设计)人: | 饭岛智彦;石川真章;和气正知 | 申请(专利权)人: | 住友大阪水泥股份有限公司 |
主分类号: | G02B5/20 | 分类号: | G02B5/20;G02B1/10;G02B1/11;G02B5/22;G09F9/00;H05K9/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 李贵亮 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 滤光 | ||
1.一种滤光片,包括透明的基材,和形成于所述透明基材的一面上的防反射层,和形成于所述基材的另一面上,并且包括被相互层叠的电磁波屏蔽层及近红外线屏蔽层的复合层,它们被制成一体化的薄膜状,并且所述复合层的未与所述透明基材接合的露出面具有粘接性。
2.根据权利要求1所述的滤光片,其中,在所述复合层中,电磁波屏蔽层被形成于所述透明基材的所述另一面上,另外,所述近红外线屏蔽层被形成于所述电磁波屏蔽层上,并且该近红外线屏蔽层具有粘接性能,形成所述粘接性露出面。
3.根据权利要求1所述的滤光片,其中,在所述复合层中,所述电磁波屏蔽层被形成于所述透明基材的所述另一面上,另外,所述近红外线屏蔽层被形成于所述电磁波屏蔽层上,所述粘接性露出面由形成于所述近红外线屏蔽层的另一面上的粘接剂层形成。
4.根据权利要求3所述的滤光片,其中,形成于所述近红外线屏蔽层上的粘接剂层在从585nm到600nm的波长区域内具有极大吸收峰。
5.根据权利要求1所述的滤光片,其中,在所述复合层中,所述近红外线屏蔽层被形成于所述透明基材的所述另一面上,所述电磁波屏蔽层的一面被形成于所述近红外线屏蔽层上,并且所述粘接性露出面由形成于所述电磁波屏蔽层的另一面上的粘接剂层的露出面形成。
6.根据权利要求5所述的滤光片,其中,形成于所述电磁波屏蔽层上的粘接剂层在从585nm到600nm的波长区域内具有极大吸收峰。
7.根据权利要求1所述的滤光片,其中,在所述复合层中,所述近红外线屏蔽层被形成于所述透明基材的所述另一面上,所述电磁波屏蔽层的一面被夹隔表面粘接剂层粘接在所述近红外线屏蔽层上,并且所述粘接性露出面由形成于所述电磁波屏蔽层的另一面上的背面粘接剂层的露出面形成。
8.根据权利要求1、2、3、5及7中任意一项所述的滤光片,其中,所述电磁波屏蔽层由金属网构成。
9.根据权利要求1、2、3、5及7中任意一项所述的滤光片,其中,所述电磁波屏蔽层具有两个以上的接地电极连接部,所述接地电极连接部被设于所述电磁波屏蔽层的周缘部分的相互分离的两个部位。
10.根据权利要求1、2、3及5中任意一项所述的滤光片,其中,所述电磁波屏蔽层由通过在所述近红外线屏蔽层上以网状印刷催化剂墨液,在其上实施金属镀敷处理而形成的金属层构成。
11.根据权利要求1、2、3、5及7中任意一项所述的滤光片,其中,所述电磁波屏蔽层的表面被黑色金属覆盖。
12.根据权利要求1、2、3、5及7中任意一项所述的滤光片,其中,所述透明基材具有紫外线吸收性能。
13.根据权利要求1、2及3中任意一项所述的滤光片,其中,所述近红外线屏蔽层是在所述电磁波屏蔽层上利用印刷法形成的层。
14.根据权利要求7所述的滤光片,其中,所述表面粘接剂层在所述电磁波屏蔽层的所述一面上,除了使其接地电极接合部露出以外,将其他的全面覆盖,并且该表面粘接剂层与所述近红外线屏蔽层粘接,所述背面粘接剂层将所述电磁波屏蔽层的所述另一面的全面覆盖。
15.一种滤光片的制造方法,是用于制造权利要求1所述的滤光片的方法,包括在透明的基材的一面上形成防反射层,在所述透明基材的另一面上形成包括被相互层叠了的电磁波屏蔽层与近红外线屏蔽层的复合层(其中,该复合层的未与所述透明基材接触的面具有粘接性),将它们制成一体化的薄膜状。
16.根据权利要求15所述的滤光片的制造方法,其中,在所述电磁波屏蔽层的周缘部分的相互分离的至少两个部位,设置未被覆盖而露出的接地电极连接部。
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