[发明专利]含羟基芳族化合物及其制备方法和用途无效
申请号: | 200580041028.9 | 申请日: | 2005-12-01 |
公开(公告)号: | CN101068841A | 公开(公告)日: | 2007-11-07 |
发明(设计)人: | 鲁道夫·安东尼厄斯·桑朵斯·玛丽亚·凡班塞;河尼·亨利克斯·玛丽亚·基尔科斯 | 申请(专利权)人: | 帝斯曼知识产权资产管理有限公司 |
主分类号: | C08G14/04 | 分类号: | C08G14/04;C07C69/732;C08G14/12 |
代理公司: | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 李剑 |
地址: | 荷兰*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 羟基 化合物 及其 制备 方法 用途 | ||
本发明涉及一种含羟基芳族化合物。
含羟基芳族化合物本身是已知的,被定义为,芳环上直接连接至少一个-OH基团的化合物。这种化合物的例子为苯酚。这类化合物的另一种例子是苯酚和甲醛的已知加合物,这种含羟基芳族化合物用在苯酚-甲醛树脂的制备过程中。由例如A.Knop,L.A.Pilato,Phenolic Resins,SpringerVerlag Berlin 1990中已知这类树脂。这类树脂具有许多已知用途,例如,这类树脂在用于制备刨花板的粘合剂中的用途。
这种已知含羟基芳族化合物(具体为它们的甲醛加合物)的缺点在于,它们的使用造成与在树脂的制备过程中、树脂的固化过程中以及最终产品中甲醛的排放相关的健康问题。
本发明的目的在于,减少或者甚至消除所述缺点,同时仍提供一种适于制备含羟基芳族树脂的化合物。
如下含羟基芳族化合物实现了该目的,其中,该含羟基芳族化合物是式(I)化合物:
其中:
由R1、R3和R5组成的组中的至少一个基团是式(II)基团;由R1、R3和R5组成的组中的其余一个或二个基团是H、OH、C1-C12烷基、或低聚或聚合体系;
R2和R4是H、OH、C1-C12烷基、或低聚或聚合体系;
式(II)是如下基团:
其中,EWG是吸电子基团。
根据本发明化合物的优点在于,可以制备含羟基芳族基树脂,该种树脂很少或甚至不会引起与甲醛使用相关的健康问题。因此,采用本发明的化合物制备的树脂特别适于用在许多应用领域中,例如,粘合剂、涂料、层压板和成型制品。
在含羟基芳族化学的领域中,在芳族环上与羟基相邻和相对位置(即,邻位和对位)的反应性与其余两个间位的反应性不同是公知的。因此,在式(I)中,基团R1、R3和R5应被认为处于类似的环境,此处也被称为一组。
在根据本发明的化合物中,由R1、R3和R5组成的组中的至少一个基团由式(II)提供;在所述组中的全部三个不都是由式(II)提供的情况下,所述组中的其它一个或两个基团是H、OH或C1-C12烷基,优选H、OH、C1-C9烷基,或是低聚或聚合体系。如果存在两个基团不是根据式(II)的,那么它们可以相同或不同。低聚或聚合体系可以是含羟基芳族树脂,即,甲阶酚醛树脂(resol)型或线性酚醛(novolac)型,优选线性酚醛型;或者上述低聚或聚合体系可以是不同类型的热固性或热塑性体系。根据本发明的组的构成一些例子如下:R1是根据式(II)的基团,R3是H,R5是H;R1是根据式(II)的基团,R3是H,R5是CH3;R1是H,R3是根据式(II)的基团,R5是H;R1和R3是根据式(II)的基团,R5是H;R1、R3和R5都是根据式(II)的基团。
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