[发明专利]具有可旋转衬底基座的物理气相沉积室

权利要求书

1.一种物理气相沉积室，包括：

室体；

溅射靶；以及

可旋转衬底基座，与所述溅射靶相对地设置在所述室体内部空间中。

2.根据权利要求1所述的室，其特征在于，所述衬底基座与适于旋转所述基座的磁驱动联接。

3.根据权利要求2所述的室，其特征在于，所述磁驱动还包括与贯穿所述室体延伸至所述衬底基座的柱状体联接的至少一个磁元件。

4.根据权利要求1所述的室，其特征在于，还包括：

适于控制所述基座在所述室体中的提升的驱动。

5.根据权利要求1所述的室，其特征在于，还包括：

与所述室体联接并且朝向所述基座向内和向下延伸的护罩。

6.根据权利要求5所述的室，其特征在于，还包括：

设置在所述护罩下方的所述室体的区域中的至少一个衬底加热元件。

7.根据权利要求5所述的室，其特征在于，所述护罩与所述基座交错。

8.根据权利要求7所述的室，其特征在于，所述衬底基座还包括：

环形周边向上面对的沟槽。

9.根据权利要求8所述的室，其特征在于，所述护罩还包括：

当所述基座处于上升位置时，与所述基座的所述沟槽咬合的内唇缘。

10.根据权利要求1所述的室，其特征在于，所述衬底基座还包括：

衬底支撑表面；以及

延伸自所述支撑表面并且限定出衬底容纳托的环形周边缘。

11.根据权利要求1所述的室，其特征在于，所述衬底基座还包括：

衬底支撑表面；以及

设置在所述支撑表面中的至少一个聚合物部件。

12.根据权利要求5所述的室，其特征在于，所述衬底基座还包括：

适于与所述护罩咬合的可移除部分。

13.根据权利要求1所述的室，其特征在于，所述衬底基座还包括：

基本上与所述溅射靶的溅射表面平行的衬底支撑表面。

14.根据权利要求1所述的室，其特征在于，所述衬底基座还包括：

以相对于所述溅射靶的溅射表面成大于0到45度的角度设置的衬底支撑表面。

15.一种物理气相沉积室，包括：

室体；

设置在所述室体上的靶；

设置在所述室体中的衬底基座；

与所述衬底基座联接并适于旋转所述衬底基座的第一驱动；以及

与所述室体中的所述基座联接并且适于控制所述基座的提升的第二驱动。

16.根据权利要求15所述的室，其特征在于，所述基座还包括：

限定出围绕所述基座周边的沟槽的向上延伸的指状部件。

17.根据权利要求16所述的室，其特征在于，还包括：

护罩，在外部上边缘与所述室体联接并且具有可选择地咬合所述沟槽的内部下边缘。

18.根据权利要求17所述的室，其特征在于，所述靶可以多重处理方向重新定位。

19.根据权利要求17所述的室，其特征在于，所述向上延伸的指状部件可从所述基座处拆除。

20.根据权利要求18所述的室，其特征在于，所述靶与所述基座的上衬底支撑表面不平行。