[发明专利]清洁设备和方法

权利要求书

1.一种表面清洁设备，其包括包含粘合表面的清洁表面，其中所述粘合表面在使用中经配置以接触待清洁的表面，所述设备进一步包括粘合表面清洁构件，其中所述粘合表面清洁构件在使用中清洁所述粘合表面的至少一部分。

2.根据权利要求1所述的表面清洁设备，其中所述粘合表面清洁构件在所述粘合表面的另一部分正清洁待清洁的表面的同时清洁所述粘合表面的一部分。

3.根据权利要求1或权利要求2所述的表面清洁设备，其中所述粘合表面清洁构件在使用中连续清洁所述粘合表面的至少一部分。

4.根据权利要求3所述的表面清洁设备，其中所述粘合表面清洁构件在使用中连续清洁所述粘合表面的条带。

5.根据权利要求4所述的表面清洁设备，其中所述粘合表面清洁构件连续清洁所述粘合表面的条带，其中所述条带沿着所述粘合表面的全长延伸。

6.根据任一前述权利要求所述的表面清洁设备，其中在所述表面的另一部分正由所述表面清洁设备清洁的同时，所述表面的一部分正被处理。

7.根据权利要求6所述的表面清洁设备，其中在所述表面的另一部分正由所述表面清洁设备清洁的同时，所述表面的一部分上正进行印刷。

8.根据任一前述权利要求所述的表面清洁设备，其中在所述粘合表面清洁构件清洁所述粘合表面的同时，所述表面的一部分正被处理。

9.根据权利要求8所述的表面清洁设备，其中在所述粘合表面清洁构件清洁所述粘合表面的同时，所述表面的一部分上正进行印刷。

10.根据任一前述权利要求所述的表面清洁设备，其中所述粘合表面清洁构件包括流体供应构件。

11.根据权利要求10所述的表面清洁设备，其中所述流体供应构件不接触所述粘合表面。

12.根据权利要求10或权利要求11所述的表面清洁设备，其中所述流体供应构件包括水供应构件。

13.根据权利要求12所述的表面清洁设备，其中所述流体供应构件经配置以在周围温度下供应水。

14.根据权利要求10到13中任一权利要求所述的表面清洁设备，其中所述流体供应构件包括喷嘴。

15.根据权利要求14所述的表面清洁设备，其中所述喷嘴包括V喷射喷嘴。

16.根据权利要求10到15中任一权利要求所述的表面清洁设备，其中所述流体供应构件位于室中。

17.根据权利要求16所述的表面清洁设备，其中所述流体供应构件位于真空室中。 

18.根据权利要求17所述的表面清洁设备，其中所述真空室在使用中经配置以去除从所述粘合表面去除的污染物。

19.根据权利要求10到18中任一权利要求所述的表面清洁设备，其中所述流体供应构件将蒸气供应到所述粘合表面的一部分。

20.根据权利要求19所述的表面清洁设备，其中所述流体供应构件将水蒸气供应到所述粘合表面的一部分。

21.根据权利要求20所述的表面清洁设备，其中所述流体供应构件将蒸汽供应到所述粘合表面的一部分。

22.根据任一前述权利要求所述的表面清洁设备，其中所述粘合表面清洁构件包括抽吸构件。

23.根据权利要求22所述的表面清洁设备，其中所述粘合表面清洁构件朝向所述粘合表面的一部分施加或引导真空。

24.根据任一前述权利要求所述的表面清洁设备，其中所述抽吸构件在所述流体供应构件已清洁所述粘合表面的一部分之后清洁所述粘合表面的所述部分。

25.根据任一前述权利要求所述的表面清洁设备，其中所述抽吸构件在所述流体供应构件已清洁所述粘合表面的所述部分之前清洁所述粘合表面。

26.根据任一前述权利要求所述的表面清洁设备，其中所述粘合表面清洁构件包括第一抽吸构件和第二抽吸构件。