[发明专利]正型干膜光致抗蚀剂和用于制备该光致抗蚀剂的组合物

权利要求书

1.一种干膜抗蚀剂，其包含：

载体膜，所述载体膜具有不大于300nm的峰高Rp，所述峰高Rp定义为 位于选择区域的z轴方向高度剖面中的平均表面高度MHt和最高表面峰的高 度之间的高度差；和

在所述载体膜上面的光致抗蚀剂层，其中所述光致抗蚀剂层包含碱溶性 树脂、重氮化物基光敏化合物和增塑剂，

其中，所述光致抗蚀剂层的厚度不大于10μm；所述载体膜是聚对苯二甲 酸乙二醇酯膜或双轴取向聚丙烯膜。

2.根据权利要求1所述的干膜抗蚀剂，其中所述光致抗蚀剂层还包含灵 敏度增强剂。

3.根据权利要求1所述的干膜抗蚀剂，其中所述载体膜的所述峰高Rp 不大于100nm。

4.根据权利要求1所述的干膜抗蚀剂，其中所述载体膜的厚度在15至 50μm的范围内。

5.根据权利要求1所述的干膜抗蚀剂，其中所述光致抗蚀剂层由正型光 致抗蚀剂组成。

6.根据权利要求1所述的干膜抗蚀剂，其中所述碱溶性树脂是酚醛清漆 树脂。

7.根据权利要求1所述的干膜抗蚀剂，其中所述光致抗蚀剂层包含甲酚 酚醛清漆树脂。

8.根据权利要求2所述的干膜抗蚀剂，其中所述光致抗蚀剂层包含，基 于100重量份所述碱溶性树脂，30至80重量份所述重氮化物基光敏化合物、 3至15重量份所述灵敏度增强剂和3至35重量份所述增塑剂。

9.根据权利要求1所述的干膜抗蚀剂，其中所述重氮化物基光敏化合物 是选自下列物质中的至少一种：2,3,4,4-四羟基二苯甲酮-1,2-重氮萘醌-磺酸酯、 2,3,4-三羟基二苯甲酮-1,2-重氮萘醌-5-磺酸酯和(1-[1-(4-羟苯基)-异丙 基]-4-[1,1-双(4-羟苯基)乙基]苯)-1,2-重氮萘醌-5-磺酸酯。

10.根据权利要求7所述的干膜抗蚀剂，其中所述甲酚酚醛清漆树脂具有 在2,000至30,000的范围内的基于GPC的重均分子量。

11.根据权利要求7所述的干膜抗蚀剂，其中所述甲酚酚醛清漆树脂具有 重量混合比在4:6至6:4的范围内的间/对-甲酚含量。

12.根据权利要求7所述的干膜抗蚀剂，其中所述甲酚酚醛清漆树脂是混 合比在7:3至9:1的范围内的(I)基于GPC的重均分子量在8,000至30,000的 范围内的甲酚酚醛清漆树脂和(II)基于GPC的重均分子量在2,000至8,000的 范围内的甲酚酚醛清漆树脂的混合物。

13.根据权利要求2所述的干膜抗蚀剂，其中所述灵敏度增强剂是选自 2,3,4-三羟基二苯甲酮、2,3,4,4-四羟基二苯甲酮和(1-[1-(4-羟苯基)异丙 基]-4-[1,1-双(4-羟苯基)乙基]苯)中的至少一种。

14.根据权利要求1所述的干膜抗蚀剂，其中所述增塑剂是选自下列物质 中的至少一种：邻苯二甲酸二丁酯、邻苯二甲酸二辛酯、邻苯二甲酸二甲酯、 聚乙二醇和有机硅基油。

15.根据权利要求5所述的干膜抗蚀剂，其中所述光致抗蚀剂层还包含释 放剂。

16.根据权利要求15所述的干膜抗蚀剂，其中所述光致抗蚀剂层基于100 重量份所述碱溶性树脂包含0.5至4重量份的释放剂。

17.根据权利要求15所述的干膜抗蚀剂，其中所述释放剂是氟基有机硅。

18.根据权利要求1所述的干膜抗蚀剂，其中所述干膜抗蚀剂还包含在所 述光致抗蚀剂层之上形成的保护层。

19.根据权利要求18所述的干膜抗蚀剂，其中所述保护层由聚乙烯、聚 对苯二甲酸乙二醇酯或聚丙烯组成。

20.根据权利要求18所述的干膜抗蚀剂，其中所述保护层的厚度在15至 30μm的范围内。