[发明专利]集电器及其制造方法在审
申请号: | 200580042478.X | 申请日: | 2005-12-08 |
公开(公告)号: | CN101076905A | 公开(公告)日: | 2007-11-21 |
发明(设计)人: | J·S·莱恩 | 申请(专利权)人: | 普莱克斯技术有限公司 |
主分类号: | H01M2/26 | 分类号: | H01M2/26 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 吕彩霞;韦欣华 |
地址: | 美国康*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电器 及其 制造 方法 | ||
1.一种在电化学空气分离元件的电极层上形成多孔集电器层的方法, 该方法包括:
制备包含导电颗粒的浆料,其中的导电颗粒由金属或金属合金与金属 或金属合金上的金属氧化物表面沉积物形成,金属氧化物表面沉积物在所 述导电颗粒中占据的重量百分比低于金属或金属合金,并且所述金属氧化 物表面沉积物占所述导电颗粒重量的0.02%-10重量%;
将所述浆料施加到在所述电极层之间具有电解质层的层状结构的电 极层的相对电极表面;并且
在施加浆料后,在比电化学空气分离元件拟操作温度高的温度下煅烧 所述层状结构,以使导电颗粒至少部分烧结并借此在所述的相对电极表面 上形成多孔导电层。
2.如权利要求1所述的方法,其中:金属氧化物表面沉积物是ZrO2、 CeO2、掺杂ZrO2、掺杂CeO2、Y2O3、Al2O3、Cr2O3、MoO3、Nb2O5、 TiO2、Ta2O5、SnO2、La0.6Sr0.4Co0.2Fe0.8O3、La0.8Sr0.2MnO3、La0.8Sr0.2FeO3、 La0.8Sr0.2CrO3或La0.8Sr0.2CoO3;而且
金属或金属合金为Ag、Au、Pd、Pt、Ni、Ru、Rh、Ir或其合金。
3.如权利要求1所述的方法,其中导电颗粒由具有ZrO2或CeO2表 面沉积物的银颗粒形成。
4.如权利要求2所述的方法,其中所述浆料通过浸涂施加。
5.如权利要求4所述的方法,其中所述层状结构在施加浆料之前处 于烧结状态。
6.如权利要求5所述的方法,其中所述导电颗粒占所述浆料重量的 45%-75重量%,且孔径为0.1-20微米。
7.如权利要求6所述的方法,其中所述金属氧化物表面沉积物占所 述导电颗粒重量的0.05%-1.0重量%。
8.如权利要求6所述的方法,其中所述金属氧化物表面沉积物占所 述导电颗粒重量的0.25重量%。
9.如权利要求8所述的方法,其中所述的导电颗粒为银,其具有3- 10微米的粒径和0.2m2/g的比面积。
10.如权利要求9所述的方法,其中所述浆料通过浸涂方法施加。
11.如权利要求10所述的方法,其中所述层状结构在施加所述浆料 之前处于烧结状态。
12.一种由或向电化学设备电极层传导电流的集电器,所述集电器包 括:
与所述电极层接触且附着其上的多孔层,所述多孔层由部分烧结的粒 状、导电颗粒块体形成,其中每种所述的导电颗粒由具有金属氧化物表面 沉积物的金属或金属合金构成,金属氧化物表面沉积物在导电颗粒中占据 的重量比低于金属或金属合金,以至于金属氧化物占多孔层重量的0.02 %-10重量%;并且
所述多孔层厚5微米-100微米并且具有10%-70%的孔隙率和 孔径为0.1微米-20微米的孔隙。
13.如权利要求12所述的集电器,其中:孔隙率为30%-50%,以 及孔径为1微米-10微米。
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