[发明专利]薄膜沉积设备及方法

权利要求书

1、一种薄膜沉积设备，其具有用以在靠立于基座上的复数个基板上形成薄膜的反应室；该设备包括：

一气体供应装置，用以自外部供应复数种气体至该反应室内，该气体包含反应气体；

一气体分配装置，其用以分配及喷雾自该气体供应装置所供应的气体，因而符合工艺目的；

一气体留置装置，其具有复数个反应槽，用以分隔调节及留置自该气体分配装置所分配的个别气体；

一旋转驱动装置，用以旋转该气体留置装置，使得留置在个别反应槽内的气体依序暴露至该基板；及

一气体排放装置，用以将该气体留置装置所留置的气体泵出至该反应室外部。

2、一种薄膜沉积设备，其具有用以在靠立于基座上的复数个基板上形成薄膜的反应室；该设备包括：

一气体供应装置，用以自外部供应复数种气体至该反应室内，该气体包含反应气体；

一气体分配装置，其用以分配及喷雾自该气体供应装置所供应的气体，因而符合工艺目的；

一气体留置装置，其具有复数个反应槽，用以分隔调节及留置自该气体分配装置所分配的个别气体，该气体留置装置以其中心部分与该气体分配装置的下端连接；

一旋转驱动装置，用以旋转该气体留置装置，使得留置在个别反应槽内的气体依序暴露至该基板，该反应槽与该气体分配装置整体旋转；及

一气体排放装置，用以将该气体留置装置所留置的气体泵出至该反应室外部。

3、一种薄膜沉积设备，其具有用以在靠立于基座上的复数个基板上形成薄膜的反应室；该设备包括：

一气体供应装置，用以自外部供应第一反应气体、第二反应气体以及吹洗气体至该反应室内；

一气体分配装置，其用以依第一反应气体、吹洗气体、第二反应气体、吹洗气体的顺序分配及喷雾自该气体供应装置所供应的气体；

一气体留置装置，其具有复数个反应槽，用以分隔调节及留置自该气体分配装置所分配的个别气体；

一旋转驱动装置，用以旋转该气体留置装置，使得留置在个别反应槽内的气体依序暴露至该基板；及

一气体排放装置，用以将该气体留置装置所留置的气体泵出至该反应室外部。

4、一种薄膜沉积设备，其具有用以在靠立于基座上的复数个基板上形成薄膜的反应室；该设备包括：

一气体供应装置，用以自外部供应复数种气体至该反应室内，该气体包含反应气体；

一气体分配装置，其用以分配及喷雾自该气体供应装置所供应的气体，因而符合工艺目的；

一气体留置装置，其具有复数个反应槽，用以分隔调节及留置自该气体分配装置所分配的个别气体；

一旋转驱动装置，用以旋转该基座，使得留置在个别反应槽内的气体依序暴露至该基板；及

一气体排放装置，用以将该气体留置装置所留置的气体泵出至该反应室外部。

5、如权利要求1至4中任一项的设备，其中，该气体留置装置包含：

一上板；及

复数个分隔壁，其以规则间隔设置于该上板底表面下方，使得该复数个反应槽在该上板下方被区隔。

6、如权利要求5的设备，其中，该上板具有圆形板的形状且该个别分隔壁系以放射方向设置。

7、如权利要求5的设备，其中，该上板具有圆形板的形状且该个别分隔壁系以螺旋状设置。

8、如权利要求5的设备，其中，在该反应槽中，需要延长气体留置时间的反应槽在其周缘进而设有连接该分隔壁端部的外周缘壁。

9、如权利要求5的设备，其中，该分隔壁在其下端侧进而设有与该基座平行延伸的延伸板，因而限制相邻反应槽间的气体混合。

10、如权利要求9的设备，其中，该延伸板与该基板间之间隔维持在小于3mm同时彼此不接触。

11、如权利要求1至4中任一项的设备，其中，该旋转驱动装置的旋转频率为30至180rpm。