[发明专利]双向场效应晶体管和矩阵转换器无效
申请号: | 200580042524.6 | 申请日: | 2005-09-30 |
公开(公告)号: | CN101076882A | 公开(公告)日: | 2007-11-21 |
发明(设计)人: | 藤川一洋 | 申请(专利权)人: | 住友电气工业株式会社 |
主分类号: | H01L21/337 | 分类号: | H01L21/337;H01L29/808 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 孙志湧;陆锦华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 双向 场效应 晶体管 矩阵 转换器 | ||
1.一种双向场效应晶体管,包括:
半导体衬底;
栅极区域,其形成在该半导体衬底上,该区域包括平行于衬底主表面的沟道,和用于控制该沟道导电性的栅电极;
第一区域,其提供在该沟道的第一侧上;和
第二区域,其提供在该沟道的第二侧上;
其中通过施加到栅电极的栅电压来控制从第一区域经过沟道流到第二区域的第一电流和从第二区域经过沟道流到第一区域的第二电流。
2.根据权利要求1的双向场效应晶体管,其中该栅极区域设置在该第一区域和第二区域的中心。
3.根据权利要求1的双向场效应晶体管,其中该栅电极和居于该第一区域中的第一电极之间的间隔基本等于该栅电极和居于该第二区域中的第二电极之间的另一间隔。
4.根据权利要求1的双向场效应晶体管,其中该栅极区域的沟道和居于该第一区域中的第一接触层之间的间隔基本等于该栅极区域的沟道和居于该第二区域中的第二接触层之间的另一间隔。
5.根据权利要求1的双向场效应晶体管,其中该晶体管是其中栅极区域包括p-n结的结型。
6.根据权利要求1的双向场效应晶体管,其中该晶体管是其中栅极区域包括金属层、绝缘层和半导体层的MIS型。
7.根据权利要求1的双向场效应晶体管,其中该晶体管是其中栅极区域包括金属和半导体的肖特基结的MES型。
8.根据权利要求1的双向场效应晶体管,其中该半导体衬底由SiC形成。
9.一种矩阵转换器,包括:
多条输入线,具有第一频率的交变电流在其中流动;
多条输出线,具有第二频率的交变电流在其中流动;
多个开关器件,用于控制各输入线和各输出线之间的开和关;
其中对于开关器件,使用根据权利要求1至8中任一项所述的双向场效应晶体管。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造