[发明专利]抛光溶液

权利要求书

1.一种包括第一有机酸和第二有机酸的抛光溶液；其中：

第一有机酸为多官能氨基酸；和

第二有机酸选自：简单羧酸、单官能羟基-羧酸、及其组合，

其中所述简单羧酸由碳、氢和一个或多个羧基组成，

其中术语“单官能”是指具有单个羧基的酸，而术语“多官能” 是指具有多个羧基的酸。

2.如权利要求1所述的抛光溶液，其中所述多官能氨基酸选自： 亚氨基二乙酸、取代的亚氨基二乙酸和它们的组合。

3.如权利要求1所述的抛光溶液，其中所述第二有机酸为单官能 简单羧酸。

4.如权利要求3所述的抛光溶液，其中所述单官能简单羧酸选自： 甲酸、乙酸、丙酸、丁酸、异丁酸、3-丁烯酸、及其组合。

5.如权利要求1所述的抛光溶液，其中所述第二有机酸为多官能 简单羧酸。

6.如权利要求5所述的抛光溶液，其中所述多官能简单羧酸是双 官能简单羧酸，其选自：草酸、丙二酸、甲基丙二酸、琥珀酸、戊二 酸、己二酸、马来酸、富马酸、及其组合。

7.如权利要求1所述的抛光溶液，其中所述第二有机酸为单官能 羟基-羧酸。

8.如权利要求7所述的抛光溶液，其中所述单官能羟基-羧酸选 自：甘油酸、乙醇酸、乳酸、羟基-丁酸、3-羟基丙酸、甲基乳酸、及 其组合。

9.如权利要求1-8中任一项所述的抛光溶液，还包括第三有机酸， 其选自：简单羧酸、单官能羟基-羧酸、及其组合，

其中所述简单羧酸由碳、氢和一个或多个羧基组成。

10.如权利要求9中任一项所述的抛光溶液，其中所述第二有机 酸为单官能简单羧酸，所述第三有机酸为单官能羟基-羧酸。

11.如权利要求1-8中任一项所述的抛光溶液，还包括研磨粒子和 任选的下列物质中的至少一种：钝化剂、缓冲剂和氧化剂。

12.一种包括第一有机酸和第二有机酸的抛光溶液，其中：

第一有机酸是第一多官能氨基酸，第二有机酸选自：

(i)第二多官能氨基酸；

(ii)单官能简单羧酸；

(iii)多官能简单羧酸；

(iv)单官能羟基-羧酸；

(v)多官能羟基-羧酸；和

(vi)它们的组合；

其中使用所述抛光溶液获得的清除速率大于基于如下两种清除速 率通过线性估算而预测得到的清除速率：使用仅包含第一有机酸的抛 光溶液获得的清除速率和使用仅包含第二有机酸的抛光溶液获得的清 除速率，

其中所述简单羧酸由碳、氢和一个或多个羧基组成，

其中术语“单官能”是指具有单个羧基的酸，而术语“多官能” 是指具有多个羧基的酸。

13.如权利要求12所述的抛光溶液，其中使用所述抛光溶液获得 的清除速率既大于使用仅包含第一有机酸的抛光溶液获得的清除速 率，也大于使用仅包含第二有机酸的抛光溶液获得的清除速率。

14.一种抛光基底表面的方法，该方法包括：

(a)将权利要求1-13中任一项的抛光溶液引入到基底表面和抛光制 品表面之间的界面，任选地，其中抛光溶液包括研磨粒子、钝化剂、 缓冲剂和氧化剂中的至少一种，并且任选地，其中抛光制品是固定的 研磨制品；和

(b)在基底表面和抛光制品表面之间提供相对运动。

15.如权利要求14所述的方法，其中基底表面包括金属。

16.如权利要求15所述的方法，其中所述金属为铜。